[發(fā)明專利]用于制造包括活性物質(zhì)倉的活性物質(zhì)釋放系統(tǒng)的裝置以及用于制造活性物質(zhì)釋放系統(tǒng)的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980022940.1 | 申請日： | 2019-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN111971160B | 公開（公告）日： | 2022-07-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 赫爾曼·塞茨;羅蘭·馬爾茨莫爾;尼爾斯·格拉波;邁克爾·特斯克;托馬斯·艾克納;羅伯特·毛;亞歷山大·里斯;克勞斯-彼得·施米茨 | 申請（專利權(quán)）人： | 羅斯托克大學(xué) |
| 主分類號： | B29C64/124 | 分類號： | B29C64/124;B29C64/112;B29C64/194;A61K9/20;B33Y10/00;B33Y80/00 |
| 代理公司： | 成都超凡明遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51258 | 代理人： | 王暉;李楠 |
| 地址： | 德國羅*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 制造 包括 活性 物質(zhì) 釋放 系統(tǒng) 裝置 以及 方法 | ||
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，
所述活性物質(zhì)混合物包括至少一種單體和/或至少一種聚合物和/或至少一種光敏引發(fā)劑和/或至少一種交聯(lián)劑(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，
所述基底材料(3)包括至少一種光敏引發(fā)劑和/或至少一種交聯(lián)劑(9)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，
所述基底材料和/或所述活性物質(zhì)混合物的單體是光敏單體，和/或所述基底材料和/或所述活性物質(zhì)混合物的聚合物是光敏聚合物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，
所述基底材料和/或所述活性物質(zhì)混合物的單體和/或所述基底材料和/或所述活性物質(zhì)混合物的聚合物是交聯(lián)劑(9)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，
所述基底材料和/或所述活性物質(zhì)混合物的單體和/或所述基底材料和/或所述活性物質(zhì)混合物的聚合物包括限定量的光敏引發(fā)劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，
所述裝置被設(shè)計為，使得所述第一輻射源(5)引起所述活性物質(zhì)混合物的聚合，和/或引起所述活性物質(zhì)混合物與所述基底材料(3)的交聯(lián)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，
布置有另一輻射源，并且所述裝置被設(shè)計為，使得所述另一輻射源在運(yùn)行中引起所述活性物質(zhì)混合物的聚合，和/或引起所述活性物質(zhì)混合物與所述基底材料(3)的交聯(lián)。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求1-8中任一項所述的裝置，其特征在于，
所述噴墨打印頭(6)包括加熱裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，
至少一個所述噴墨打印頭(6)包括用于容納所述活性物質(zhì)混合物的容器。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其特征在于，
所述容器包括加熱裝置。
12.根據(jù)權(quán)利要求10或11所述的裝置，其特征在于，
所述容器被安置在至少一個所述噴墨打印頭(6)上，使得實現(xiàn)所述活性物質(zhì)混合物的再流入。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，
所述第一輻射源(5)和/或所述另一輻射源包括光電元器件和/或光學(xué)諧振器。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，
所述第一輻射源(5)和/或所述另一輻射源具有不同的輻射特性。
15.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，
所述第一輻射源(5)和所述另一輻射源被配置為，使得其產(chǎn)生彼此不同的波長。
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