[發明專利]定影構件、定影裝置和電子照相圖像形成設備有效
| 申請號: | 201980020722.4 | 申請日: | 2019-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN111886550B | 公開(公告)日: | 2022-08-16 |
| 發明(設計)人: | 宮內陽平;能登屋康晴;吉村公博 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/20 | 分類號: | G03G15/20;B32B27/30;F16C13/00 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 定影 構件 裝置 電子 照相 圖像 形成 設備 | ||
1.一種電子照相用定影構件,其沿厚度方向依次包括:
基層;
彈性層;和
所述彈性層上的表面層,
所述彈性層包含硅橡膠,
所述表面層由單一層構成,
所述表面層包含氟樹脂和具有全氟聚醚結構的氟油,
其特征在于,所述定影構件滿足要求(i)和要求(ii):
(i)對于從所述定影構件獲取的包含所述表面層的全部厚度部分的測量樣品,當進行包括清潔作為面向所述基層的一側的相對側的第一表面的預定位置、和在0.4MPa的壓力和180℃的溫度下將石英晶體微天平QCM傳感器的檢測面壓在所述位置上50毫秒的處理時,所述檢測面的1cm2的單位面積中粘附的包含具有全氟聚醚結構的氟油的粘附物的質量P11為1.0×102ng以上且1.0×104ng以下;和
(ii)對于已進行所述要求(i)中限定的處理的測量樣品,當清潔所述位置之后,進行包括將測量樣品放入180℃的溫度的環境中120秒,然后在0.4MPa的壓力和180℃的溫度下將石英晶體微天平QCM傳感器的檢測面壓在所述位置上50毫秒的處理時,所述檢測面的1cm2的單位面積中粘附的包含具有全氟聚醚結構的氟油的粘附物的質量P12為0.5×P11以上且1.2×P11以下。
2.一種電子照相用定影構件,其沿厚度方向依次包括:
基層;
彈性層;和
在所述彈性層上的表面層,
所述彈性層包含硅橡膠,
所述表面層由單一層構成,
所述表面層包含氟樹脂和具有全氟聚醚結構的氟油,
其特征在于,
對于從所述定影構件獲取的包含所述表面層的全部厚度部分的測量樣品,
當在0.4MPa的壓力和180℃的溫度下將石英晶體微天平QCM傳感器的檢測面壓在作為面向所述基層的一側的相對側的第一表面上50毫秒,所述檢測面的1cm2的單位面積中粘附的包含具有全氟聚醚結構的氟油的粘附物的質量定義為P11ng時,和
當在0.4MPa的壓力和180℃的溫度下將石英晶體微天平QCM傳感器的檢測面壓在作為面向所述測量樣品的所述基層的一側的第二表面上50毫秒,所述檢測面的1cm2的單位面積中粘附的包含具有全氟聚醚結構的氟油的粘附物的質量定義為P21ng時,P21P11。
3.根據權利要求1或2所述的定影構件,其中在所述表面層中所述氟油的含量為所述表面層的1.0質量%以上且25質量%以下。
4.根據權利要求1或2所述的定影構件,其中所述P11為1.0×102ng以上且5.0×103ng以下。
5.根據權利要求1或2所述的定影構件,其中所述氟樹脂為四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物PFA。
6.根據權利要求1或2所述的定影構件,其中所述表面層的厚度為5.0μm以上且50μm以下。
7.根據權利要求1或2所述的定影構件,其中所述氟油為全氟聚醚。
8.根據權利要求7所述的定影構件,其中所述全氟聚醚具有由結構式(1)表示的化學結構:
在結構式(1)中,a、b、c、d、e和f各自獨立地表示0或正整數,并且滿足1≤a+b+c+d+e+f≤600,和a、b、c或d中至少一者表示正整數。
9.根據權利要求8所述的定影構件,其中所述全氟聚醚具有選自由結構式(2)至(4)組成的組中的至少一種化學結構:
在結構式(2)至(4)中,m和n各自獨立地表示1以上的整數。
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