[發明專利]用于水的凈化和再礦化的方法和設備

在審

• 申請號: 201980019107.1
• 申請日: 2019-03-12
• 公開（公告）號: CN111867981A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: S·阿布斯基
• 申請（專利權）人: 格尼弗有限責任公司
• 主分類號: C02F1/08
• 分類號: C02F1/08;C02F1/72;C02F1/76;C02F1/78;B01D1/06;B01D1/22;B01D5/00;C02F1/32;C02F1/68
• 代理公司: 北京北翔知識產權代理有限公司 11285
• 代理人: 潘飛;鄭建暉

1.一種用于水的凈化和/或再礦化的設備，所述設備包括水平布置的多個熱電模塊，每個所述模塊包括熱側和冷側，其中至少第一熱表面熱耦合到所述熱側，并且至少第一冷表面熱耦合到所述冷側，所述熱表面包括用于使液體接觸所述第一熱表面的裝置，所述裝置選自降膜元件或多孔的、纖維的、燒結的、熱壓結的、有圖案的、有肋的或雕刻的濕式蒸發元件。

2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述第一熱表面具有在1.2微米和50微米之間的平均表面粗糙度。

3.根據權利要求1所述的設備，其中，所述第一熱表面具有在2微米和20微米之間的平均表面粗糙度。

4.根據權利要求1所述的設備，其中，所述熱表面和所述冷表面之間的間距在1mm至40mm之間。

5.根據權利要求1所述的設備，其中，所述熱表面和所述冷表面之間的間距在5mm和15mm之間。

6.根據權利要求1所述的設備，其中，取決于熱電模塊在序列內的位置，所述熱表面的溫度在大約30℃至100℃的范圍內，并且類似地，取決于熱電模塊在序列內的位置，所述冷表面的溫度在大約10℃至90℃的范圍內。

7.根據權利要求6所述的設備，其中，所述熱表面的溫度在大約40℃至70℃的范圍內，并且所述冷表面的溫度在大約20℃至50℃的范圍內。

8.根據權利要求1所述的設備，其中，所述設備還包括消毒元件，所述消毒元件選自由以下元件組成的組：紫外線燈、次氯酸鹽發生器、混合氧化劑發生器、以及臭氧發生器。

9.根據權利要求1所述的設備，其中，每個所述熱電模塊包括位于相對側上的一個蒸發半單元和一個冷凝半單元，每個所述熱電模塊包括密封裝置。

10.根據權利要求1所述的設備，其中，熱表面或冷表面中的至少一個由金屬材料或熱塑性聚合物材料制成。

11.根據權利要求10所述的設備，其中，熱表面或冷表面中的至少一個至少由金屬材料或熱塑性聚合物材料制成，該金屬材料選自由以下材料組成的組：不銹鋼、鈦、銅、鋁或它們的合金，該熱塑性聚合物材料選自由以下材料組成的組：聚丙烯或聚乙烯或它們的混合物。

12.根據權利要求10所述的設備，其中，所述熱塑性聚合物材料還包括銅基顆粒、石墨基顆粒或鎳基顆粒。

13.一種用于水的凈化的方法，包括以下步驟：

將未凈化水給水進給到如權利要求1所述的用于水的凈化和/或再礦化的設備中；

使至少一部分的所述入口未凈化水給水接觸至少一個熱表面；

蒸發所述入口未凈化水給水的所述部分的至少一部分以獲得蒸汽流；

將所述蒸汽流運輸到至少一個冷表面；以及

在所述冷表面處冷凝所述蒸汽流。

14.根據權利要求13所述的方法，其中，所述第一熱表面具有在1.2微米和50微米之間的平均表面粗糙度。

15.根據權利要求13所述的方法，其中，所述第一熱表面具有在2微米和20微米之間的平均表面粗糙度。

16.根據權利要求13所述的方法，其中，以大約30℃至100℃范圍內的溫度執行所述蒸發步驟。

17.根據權利要求13所述的方法，其中，以大約10℃至90℃范圍內的溫度執行所述冷凝步驟。

18.根據權利要求13所述的方法，其中，以大約20℃至50℃范圍內的溫度執行所述冷凝步驟。