[發(fā)明專利]用于淺溝槽隔離應(yīng)用的化學(xué)機(jī)械拋光組合物

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980019042.0
• 申請(qǐng)日: 2019-03-05
• 公開（公告）號(hào): CN111868189B
• 公開（公告）日: 2022-07-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S.布羅斯南
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: CMC材料股份有限公司
• 主分類號(hào): C11D1/38
• 分類號(hào): C11D1/38;C11D1/66
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 詹承斌;宋莉

1.化學(xué)機(jī)械拋光組合物，包含：

(a)氧化鈰研磨劑顆粒，

(b)陽離子型聚合物，其中，該陽離子型聚合物包含聚(二烯丙基二甲基氯化銨)-共-聚(丙烯酰胺)、聚甲基丙烯酸(2-二甲基氨基)乙酯甲基氯季鹽、聚(二烯丙基二甲基氯化銨)、聚乙烯基甲基咪唑鎓甲基硫酸鹽、聚(二甲基胺-共-表氯醇)、聚(乙烯基甲基咪唑鎓甲基硫酸鹽)-共-聚(乙烯基吡咯烷酮)、聚(乙烯基甲基咪唑鎓氯化物)-共-聚(N-乙烯基吡咯烷酮)、聚(乙烯基吡咯烷酮)-共-聚(甲基丙烯酰胺)-共-聚(乙烯基咪唑)-共-聚(乙烯基甲基咪唑鎓甲基硫酸鹽)、聚(乙烯基吡咯烷酮)-共-聚(甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯硫酸甲酯)、聚(乙烯基己內(nèi)酰胺)-共-聚(乙烯基吡咯烷酮)-共-聚(乙烯基甲基咪唑鎓甲基硫酸鹽)、或其組合，

(c)非離子型聚合物，包含聚乙二醇十八烷基醚、聚乙二醇月桂基醚、聚乙二醇油烯基醚、聚(乙烯)-共-聚(乙二醇)、辛基苯氧基聚(乙烯氧基)乙醇、或其組合，

(d)飽和一元酸，及

(e)水性載劑，

該拋光組合物進(jìn)一步包含不飽和一元酸。

2.如權(quán)利要求1的拋光組合物，其中，該氧化鈰研磨劑顆粒包含經(jīng)煅燒的氧化鈰顆粒、濕法氧化鈰顆粒、基于濕法的經(jīng)加工的氧化鈰顆粒、或其組合。

3.如權(quán)利要求1的拋光組合物，其中，該氧化鈰研磨劑顆粒以0.0005重量％至10重量％的濃度存在于該拋光組合物中。

4.如權(quán)利要求1的拋光組合物，其中，該陽離子型聚合物以0.0005重量％至0.025重量％的濃度存在于該拋光組合物中。

5.如權(quán)利要求1的拋光組合物，其中，該非離子型聚合物以0.0005重量％至0.5重量％的濃度存在于該拋光組合物中。

6.如權(quán)利要求1的拋光組合物，其中，該飽和一元酸包含甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、或其組合。

7.如權(quán)利要求1的拋光組合物，其中，該飽和一元酸以0.0001重量％至0.5重量％的濃度存在于該拋光組合物中。

8.如權(quán)利要求1的拋光組合物，進(jìn)一步包含選自以下的添加劑：殺生物劑、阻垢劑、分散劑、pH調(diào)節(jié)劑、及其組合。

9.如權(quán)利要求1的拋光組合物，其中，該拋光組合物的pH為3.0至5.0。

10.如權(quán)利要求1的拋光組合物，其中，該不飽和一元酸包含C₃-C₆不飽和一元酸。

11.如權(quán)利要求10的拋光組合物，其中，該C₃-C₆不飽和一元酸包含丙烯酸、2-丁烯酸、2-戊烯酸、反式-2-己烯酸、反式-3-己烯酸、2-己炔酸、2,4-己二烯酸、山梨酸鉀、反式-2-甲基-2-丁烯酸、3,3-二甲基丙烯酸、或其組合，包括其立體異構(gòu)體。

12.如權(quán)利要求11的拋光組合物，其中，該C₃-C₆不飽和一元酸包含2-丁烯酸。

13.如權(quán)利要求1的拋光組合物，其中，該不飽和一元酸以0.0001重量％至0.5重量％的濃度存在于該拋光組合物中。