[發明專利]包括電離器的裝置

在審

• 申請號: 201980017979.4
• 申請日: 2019-03-08
• 公開（公告）號: CN111819658A
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 賽義德·鮑姆塞勒克;高橋直樹;柏拉卡斯·斯里達爾·穆爾蒂
• 申請（專利權）人: ATONARP株式會社
• 主分類號: H01J49/10
• 分類號: H01J49/10;H01J27/02;H01J37/08
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種裝置，其包括電離器，所述電離器包括：

至少一個塊體，其包括至少一種電子發射體材料并且被配置成能夠至少部分地損耗；以及

加熱單元，其被配置成對所述至少一個塊體的至少一部分進行加熱。

2.根據權利要求1所述的裝置，其中，所述電離器還包括至少一個電子發射體分配器，各電子發射體分配器被配置成使所述至少一個塊體的有限部分露出。

3.根據權利要求2所述的裝置，其中，所述電子發射體分配器包括：

儲存器，其被配置成保持所述至少一個塊體；以及

推進機構，其被配置成使所述至少一個塊體的有限部分露出，

其中，所述加熱單元被配置成對所述至少一個塊體的有限部分進行加熱。

4.根據權利要求3所述的裝置，其中，所述推進機構被配置成使所述至少一個塊體的包括尖端的有限部分露出，以及所述加熱單元被配置成對所述至少一個塊體的尖端進行加熱。

5.根據權利要求2至4中任一項所述的裝置，還包括：用于電子產生的模塊化部件，其包括至少一個電子發射體分配器以及用于所述電子產生的發射控制的包含檢測的電路。

6.根據權利要求1至5中任一項所述的裝置，其中，所述電離器還包括配備有單個孔或孔陣列的加速陽極板。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的裝置，其中，所述電離器還包括利用所述至少一個塊體所產生的電子對采樣氣體進行電離的電離區。

8.根據權利要求7所述的裝置，其中，所述電離區包括陽極和磁場以形成長電子軌跡。

9.根據權利要求7或8所述的裝置，其中，所述電離器還包括被配置成保持所述至少一個塊體以防止所述采樣氣體的直接暴露的保持器。

10.根據權利要求7或8所述的裝置，其中，所述電離器還包括被配置成保持所述至少一個塊體以使得所述至少一個塊體的一端指向所述電離區并且所述至少一個塊體的另一端不指向所述電離區的保持器。

11.根據權利要求7至10中任一項所述的裝置，還包括濾質區，所述濾質區被設置在所述電離區的旁邊。

12.根據權利要求1至11中任一項所述的裝置，其中，利用所述至少一種電子發射體材料的粉末對所述至少一個塊體進行燒結或浸漬，以形成分布在所述至少一個塊體中的大量納米發射體。

13.根據權利要求1至12中任一項所述的裝置，其中，所述至少一個塊體包括至少一個塊陰極，所述至少一個塊陰極包括與卷繞燈絲集成的塊體。

14.根據權利要求1至13中任一項所述的裝置，其中，所述至少一個塊體包括柱狀體、桿狀體或線狀體。

15.根據權利要求1至14中任一項所述的裝置，還包括：操作單元，其被配置成以不同溫度和/或不同電子能量來操作所述電離器。

16.一種方法，其包括使用電離器來對氣體進行電離，所述電離器包括：至少一個塊體，其包括至少一種電子發射體材料；以及加熱單元，用于對所述至少一個塊體的至少一部分進行加熱，

其中，所述電離包括在允許所述至少一個塊體的一部分損耗的情況下發射熱電子。

17.根據權利要求16所述的方法，其中，所述電離器還包括用于保持所述至少一個塊體的至少一個電子發射體分配器，

其中，所述電離還包括使用所述至少一個電子發射體分配器來使所述至少一個塊體的有限部分露出。