[發明專利]光學膜、光學阻隔膜以及背光單元在審
| 申請號： | 201980016457.2 | 申請日： | 2019-03-07 |
| 公開（公告）號： | CN111954831A | 公開（公告）日： | 2020-11-17 |
| 發明（設計）人： | 鈴木文武 | 申請（專利權）人： | 凸版印刷株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/02 | 分類號： | G02B5/02;B32B3/30;B32B7/023;B32B27/18;F21S2/00;F21V3/00;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人： | 常海濤;金小芳 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 阻隔 以及 背光 單元 | ||
1.一種光學膜，具備
第一膜基材、以及
在所述第一膜基材上形成的光擴散層，其中
所述光擴散層包含粘合劑樹脂和光擴散粒子，
所述光擴散粒子的個數的10％以上比不存在所述光擴散粒子的周圍區域突出來一部分，從而在所述光擴散層的表面上形成凹凸結構，并且
突出來一部分的所述光擴散粒子的個數的90％以上被所述粘合劑樹脂被覆其突出部分。
2.根據權利要求1所述的光學膜，在被覆所述光擴散粒子的突出部分的粘合劑樹脂的厚度當中，被覆從由所述第一膜基材與所述光擴散層間的界面所確定的平面沿垂直方向上的最高部分的粘合劑樹脂的厚度的平均值為50nm以上1μm以下。
3.根據權利要求1或權利要求2所述的光學膜，所述光擴散粒子的突出部分距離由具有所述凹凸結構的所述光擴散層的平均膜厚所確定的平面的高度的平均值為所述光擴散層內的所述光擴散粒子的平均粒徑的10％以上且小于50％。
4.根據權利要求1至權利要求3中任意一項所述的光學膜，所述光擴散層內的所述光擴散粒子的平均粒徑為0.5μm以上10μm以下。
5.根據權利要求1至權利要求4中任意一項所述的光學膜，所述光擴散層的表面電阻率為1.0×1013Ω/□以下。
6.一種光學阻隔膜，其是通過將具備無機氧化物層的第二膜基材貼合在權利要求1至權利要求5中任意一項所述的光學膜所具備的所述第一膜基材的與形成有所述光擴散層的面相反的那一側的面上而形成的。
7.一種背光單元，具備權利要求6所述的光學阻隔膜。
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