[發(fā)明專利]受引導(dǎo)的圖案化裝置的檢查有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980014812.2 | 申請日: | 2019-02-19 |
| 公開(公告)號: | CN111801623B | 公開(公告)日: | 2023-10-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | A·B·范奧斯滕;V·韋恩卡特森;J·N·威利;R·T·普拉齊 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F1/84 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 董莘 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 引導(dǎo) 圖案 化裝 檢查 | ||
1.一種用于圖案化裝置的檢查的方法,所述方法包括:
獲取(i)圖案化裝置制造工藝的圖案化裝置設(shè)備數(shù)據(jù),(ii)基于所述圖案化裝置設(shè)備數(shù)據(jù)的圖案化裝置襯底圖,以及(iii)基于所述圖案化裝置襯底圖的、與所述圖案化裝置相對應(yīng)的經(jīng)預(yù)測的工藝窗口限制的圖案位置;以及
由硬件計算機(jī)系統(tǒng)基于所述工藝窗口限制的圖案位置,將圖案化裝置檢查設(shè)備引導(dǎo)到所述工藝窗口限制的圖案位置以進(jìn)行缺陷檢查。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述圖案化裝置設(shè)備數(shù)據(jù)包括襯底高度圖、光束方向、強(qiáng)度或焦距。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中所述圖案化裝置襯底圖通過建模或模擬來標(biāo)識所述光束方向、所述高度圖、所述強(qiáng)度或所述焦距對所述圖案化裝置圖案的貢獻(xiàn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述經(jīng)預(yù)測的工藝窗口限制的圖案位置是通過對所述圖案化裝置襯底圖的圖案保真度分析進(jìn)行模擬或建模來確定的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述圖案保真度分析包括標(biāo)識所述圖案化裝置內(nèi)的、具有與所述圖案化裝置圖案有關(guān)的相對較高的邊緣位置誤差的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中引導(dǎo)所述圖案化裝置檢查設(shè)備包括:由所述硬件計算機(jī)系統(tǒng)生成信號,以在所述圖案化裝置檢查設(shè)備保持靜止的同時、相對于所述圖案化裝置檢查設(shè)備移動所述圖案化裝置設(shè)備的圖案化裝置支撐件,以使得能夠在與所述圖案化裝置相對應(yīng)的所述工藝窗口限制的圖案位置處進(jìn)行測量。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中引導(dǎo)所述圖案化裝置檢查設(shè)備包括:由所述硬件計算機(jī)系統(tǒng)生成信號,以在所述圖案化裝置保持靜止的同時、相對于所述圖案化裝置移動所述圖案化裝置檢查設(shè)備,以使得能夠在與所述圖案化裝置相對應(yīng)的所述工藝窗口限制的圖案位置處進(jìn)行測量。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中引導(dǎo)所述圖案化裝置檢查設(shè)備還包括:由所述硬件計算機(jī)系統(tǒng)生成信號,以調(diào)節(jié)所述檢查設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng),從而將照射光束定向到與所述圖案化裝置相對應(yīng)的所述工藝窗口限制的圖案位置。
9.一種用于圖案化裝置的檢查的系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括:
圖案化裝置設(shè)備,用于制造所述圖案化裝置;
圖案化裝置檢查設(shè)備,被配置為與所述圖案化裝置設(shè)備進(jìn)行通信;
處理器,被配置為:
獲取(i)圖案化裝置設(shè)備數(shù)據(jù)、(ii)基于所述圖案化裝置設(shè)備數(shù)據(jù)的圖案化裝置襯底圖,以及(iii)基于所述圖案化裝置襯底圖的、與所述圖案化裝置相對應(yīng)的經(jīng)預(yù)測的工藝窗口限制的圖案位置;以及
基于所述工藝窗口限制的圖案位置,將圖案化裝置檢查設(shè)備引導(dǎo)到所述工藝窗口限制的圖案位置以進(jìn)行缺陷檢查。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng),其中所述經(jīng)預(yù)測的工藝窗口限制的圖案位置是通過對所述圖案化裝置襯底圖的圖案保真度分析進(jìn)行模擬或建模來確定的。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng),其中所述圖案保真度分析包括:標(biāo)識所述圖案化裝置內(nèi)的、具有與所述圖案化裝置圖案有關(guān)的相對較高的邊緣位置誤差的位置。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng),其中所述處理器還被配置為:生成信號,以在所述圖案化裝置檢查設(shè)備保持靜止的同時、相對于所述圖案化裝置檢查設(shè)備移動所述圖案化裝置設(shè)備的圖案化裝置支撐件,以使得能夠在與所述圖案化裝置相對應(yīng)的所述工藝窗口限制的圖案位置處進(jìn)行測量。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng),其中所述處理器還被配置為:生成信號,以在所述圖案化裝置保持靜止的同時、相對于所述圖案化裝置移動所述圖案化裝置檢查設(shè)備,以使得能夠在與所述圖案化裝置相對應(yīng)的所述工藝窗口限制的圖案位置處進(jìn)行測量。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于ASML荷蘭有限公司,未經(jīng)ASML荷蘭有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201980014812.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 引導(dǎo)裝置及引導(dǎo)方法
- 引導(dǎo)系統(tǒng)以及引導(dǎo)方法
- 引導(dǎo)裝置、引導(dǎo)方法以及引導(dǎo)程序
- 車輛引導(dǎo)裝置、車輛引導(dǎo)方法和車輛引導(dǎo)程序
- 移動引導(dǎo)系統(tǒng)、移動引導(dǎo)裝置、以及移動引導(dǎo)方法
- 引導(dǎo)裝置、引導(dǎo)方法以及引導(dǎo)程序
- 路徑引導(dǎo)裝置、路徑引導(dǎo)方法以及路徑引導(dǎo)程序
- 引導(dǎo)方法及引導(dǎo)系統(tǒng)
- 引導(dǎo)裝置、引導(dǎo)方法以及引導(dǎo)程序
- 引導(dǎo)系統(tǒng)、引導(dǎo)裝置和引導(dǎo)系統(tǒng)的控制方法





