[發(fā)明專利]超低量程熒光計校準

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201980014594.2
• 申請日: 2019-03-01
• 公開（公告）號: CN111758020A
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發(fā)明（設計）人: 雍順祜
• 申請（專利權）人: 埃科萊布美國股份有限公司
• 主分類號: G01N21/27
• 分類號: G01N21/27;G01N21/64;G01N33/18;G01N21/84
• 代理公司: 北京世峰知識產權代理有限公司 11713
• 代理人: 卓霖;許向彤

1.一種校準用于監(jiān)測反滲透膜分離過程的熒光計的方法，其包括：

將熒光示蹤劑引入進料流中以在所述進料流中提供第一濃度的熒光示蹤劑；

使膜與所述進料流接觸，從而產生滲透物流和濃縮物流；

用熒光計對從具有第一濃度的熒光示蹤劑的進料流產生的滲透物流進行熒光分析，并由此基于所存儲的包括截距的校準曲線，確定所述滲透物流中所述熒光示蹤劑的第一測量濃度；

調整所述進料流中所述熒光示蹤劑的濃度，以在所述進料流中提供不同于所述第一濃度的第二濃度的熒光示蹤劑；

用熒光計對從具有第二濃度的熒光示蹤劑的進料流產生的滲透物流進行熒光分析，并由此基于所述校準曲線，確定所述滲透物流中所述熒光示蹤劑的第二測量濃度；

基于所述第一測量濃度與所述第二測量濃度的比較，確定所述校準曲線的截距偏移；并且

根據所述截距偏移確定所述校準曲線調整后的截距。

2.根據權利要求1所述的方法，其中調整所述熒光示蹤劑的濃度包括調整所述熒光示蹤劑的濃度，直到所述熒光示蹤劑的第二濃度范圍為所述熒光示蹤劑的第一濃度的0.1倍至0.9倍或為所述熒光示蹤劑的第一濃度的1.1倍至10倍。

3.根據權利要求1或2中任一項所述的方法，其中基于所述第一測量濃度與所述第二測量濃度的比較確定所述校準曲線的截距偏移包括根據以下方程式確定所述截距偏移：

其中γ是截距偏移，a是所述熒光示蹤劑的第一測量濃度，b是所述熒光示蹤劑的第二測量濃度，并且x是所述熒光示蹤劑的第二濃度除以所述熒光示蹤劑的第一濃度。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的方法，其中確定所述校準曲線的調整后的截距包括向所述校準曲線的截距增加所確定的截距偏移量。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的方法，其還包括將所述調整后的截距存儲在與所述熒光計相關聯(lián)的非暫時性存儲器中。

6.根據權利要求1-5中任一項所述的方法，其中所述校準曲線是形式為y＝m*x+b的一階方程式，其中y是所述熒光示蹤劑的測量濃度，m是由所述熒光計測得的熒光信號，x是斜率，并且b是截距。

7.根據權利要求1-6中任一項所述的方法，其中所述熒光計是在線熒光計，其基本上連續(xù)地對從所述進料流產生的所述滲透物流進行熒光分析。

8.根據權利要求7所述的方法，其還包括：在在線安裝所述熒光計之前，用熒光計進行多點校準，所述多點校準包括：對無所述熒光示蹤劑的第一流體和具有已知濃度的所述熒光示蹤劑的第二流體進行熒光分析，并由此確定所述校準曲線的斜率和截距，

其中確定所述校準曲線的調整后的截距包括確定所述調整后的截距而無需確定調整后的斜率。

9.根據權利要求1-8中任一項所述的方法，其中所述進料流包括水性廢水流或水性循環(huán)流。

10.根據權利要求1-9中任一項所述的方法，其中所述膜是反滲透膜。

11.根據權利要求1-10中任一項所述的方法，其中對從具有所述第二濃度的熒光示蹤劑的所述進料流產生的所述滲透物流進行熒光分析包括：在調整引入到所述進料流中的所述熒光示蹤劑的濃度之后一段時間對所述滲透物流進行熒光分析，所述一段時間有效地實現(xiàn)所述進料流和所述滲透物流中所述熒光示蹤劑的平衡濃度。

12.根據權利要求1-11中任一項所述的方法，其中所述進料流中所述熒光示蹤劑的第一濃度范圍為十億分之10(ppb)至100,000ppb，并且所述滲透物中的熒光示蹤劑的第一濃度小于10ppb。

13.根據權利要求1-12中任一項所述的方法，其中除了所述截距以外，所述校準曲線還包括一個或多個斜率常數，并且確定所述校準曲線的調整后的截距包括確定所述調整后的截距而無需確定調整后的斜率常數。