[發明專利]還原劑噴射裝置有效
| 申請號： | 201980014301.0 | 申請日： | 2019-02-13 |
| 公開（公告）號： | CN111742122B | 公開（公告）日： | 2022-04-01 |
| 發明（設計）人： | 大串彰秀;大石和貴 | 申請（專利權）人： | 五十鈴自動車株式會社 |
| 主分類號： | F01N3/24 | 分類號： | F01N3/24;B01D53/94;B01F25/30;B01F25/72;B01F25/21;B01F23/21;B01F35/71;F01N3/08 |
| 代理公司： | 北京天達共和知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11586 | 代理人： | 張嵩;薛侖 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 還原劑 噴射 裝置 | ||
1.一種還原劑噴射裝置，包括：
流路體，其使排氣流通，
噴射器，其能夠向所述流路體內噴射還原劑，以及
混合器構件，其具有多片翅片，并且被設置在所述流路體內的比所述噴射器靠下游側；
所述混合器構件被以使其中心部相對于所述流路體內的排氣通道軸中心向所述噴射器的相反側即偏移側偏移的方式配置在所述流路體內，并且所述噴射器的噴射軸心朝向比所述混合器構件的中心部靠所述偏移側的翅片，
在所述混合器構件的偏移側的相反側的外周緣與所述流路體的內壁之間形成有間隙，
所述混合器構件的所述翅片的偏移側的前端部被固定于所述流路體的內壁。
2.如權利要求1所述的還原劑噴射裝置，其中，
所述流路體包含彎曲部；
所述噴射器被設置于所述彎曲部的曲率半徑較大的外側彎曲部；
所述混合器構件被以使其中心部向所述彎曲部的曲率半徑較小的內側彎曲部側偏移的方式配置。
3.如權利要求1或2所述的還原劑噴射裝置，其中，
所述噴射器具有3個噴射孔，并且這3個噴射孔中的至少2個噴射孔的噴射軸心朝向比所述混合器構件的中心部靠所述偏移側的翅片。
4.如權利要求3所述的還原劑噴射裝置，其中，
所述噴射器的3個噴射孔中的2個噴射孔的噴射軸心朝向比所述混合器構件的中心部靠偏移側的翅片，1個噴射孔的噴射軸心朝向比所述混合器構件的中心部靠所述偏移側的相反側的翅片。
5.如權利要求1或2所述的還原劑噴射裝置，其中，
所述多片翅片被形成為從所述混合器構件的中心部輻射狀地延伸。
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