[發明專利]帶寬增加的測量方法和裝置

在審

• 申請號: 201980014284.0
• 申請日: 2019-01-24
• 公開（公告）號: CN111742265A
• 公開（公告）日: 2020-10-02
• 發明（設計）人: H·A·J·克拉默;S·I·莫薩瓦特;P·C·欣南
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01N21/95;G01N21/27;G02B21/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 董莘

1.一種針對測量應用優化測量照射的帶寬的方法，所述方法包括：

利用具有參考帶寬的參考測量照射，執行參考測量；

執行一個或多個優化測量，所述一個或多個優化測量中的每個優化測量是利用具有變化的候選帶寬的測量照射來執行的；

將所述一個或多個優化測量與所述參考測量進行比較；以及

基于所述比較，為所述測量應用選擇最佳帶寬。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述比較步驟包括：通過將所述一個或多個優化測量中的每個優化測量與所述參考測量進行比較，確定針對所述一個或多個優化測量中的每個優化測量的帶寬影響值。

3.根據權利要求2所述的方法，其中選擇最佳帶寬的步驟包括：選擇所述候選帶寬中的如下的最寬候選帶寬，針對所述最寬候選帶寬的所述帶寬影響值滿足性能指標。

4.根據權利要求3所述的方法，其中所述性能指標包括拒絕閾值，使得所述最佳帶寬與如下的所述最寬候選帶寬相對應，針對所述最寬候選帶寬的所述帶寬影響值低于所述拒絕閾值。

5.根據權利要求4所述的方法，其中所述執行一個或多個優化測量的步驟以及所述比較步驟被執行，使得所述變化的候選帶寬被增加、并且所述比較被進行，直到所述帶寬影響值超過所述拒絕閾值。

6.根據權利要求2至5中任一項所述的方法，其中每個帶寬影響值包括優化測量與所述參考測量之間的差值。

7.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中所述變化的候選帶寬中的每個候選帶寬比所述參考帶寬寬。

8.根據前述權利要求中任一項所述的方法，其中所述比較步驟包括：將從所述一個或多個優化測量中的每個優化測量獲取的檢測圖像與在所述參考測量期間獲取的檢測圖像進行比較。

9.根據權利要求1至7中任一項所述的方法，其中所述比較步驟包括：將根據所述一個或多個優化測量中的每個優化測量而計算的參數值與根據所述參考測量而計算的參數值進行比較。

10.根據權利要求1至7中任一項所述的方法，其中：

所述參考測量包括在襯底上的多個不同位置處執行的一組參考測量；

所述一個或多個優化測量中的每個優化測量包括在所述襯底上的所述多個不同位置處執行的一組優化測量；以及

所述比較步驟包括：在所述一組或多組優化測量中的每組優化測量與所述一組參考測量之間、在所述位置中的每個位置處的點對點比較。

11.根據權利要求10所述的方法，其中所述位置分布在所述襯底之上，在襯底場之上，或者在襯底區域之上。

12.根據權利要求10或11所述的方法，其中所述比較包括：對變化量度的比較，所述變化量度的比較對被比較的每組測量中的變化量進行比較。

13.根據前述權利要求中任一項所述的方法，包括：利用具有所述最佳帶寬的最佳帶寬測量照射，執行測量的步驟。

14.根據權利要求13所述的方法，包括另外的步驟：

在相對于使用具有所述參考帶寬的測量照射減輕使用所述最佳帶寬測量照射的所述影響的同時，根據所述測量確定感興趣參數的參數值。

15.根據權利要求14所述的方法，其中所述減輕使用所述最佳帶寬測量照射的所述影響包括：根據與所述最佳帶寬相對應的測量數據和與所述參考帶寬相對應的參考數據之間的確定的關系，確定對所述參數值的校正。