[發明專利]抗反射膜、偏光板和顯示裝置

有效

• 申請號: 201980012904.7
• 申請日: 2019-05-14
• 公開（公告）號: CN111712534B
• 公開（公告）日: 2022-12-09
• 發明（設計）人: 邊真錫;高京門;李相憲;徐光錫;張影來
• 申請（專利權）人: 株式會社LG化學
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;G02B1/111;G02B5/22;G02B5/30;C09D5/00;C09D133/08;C09D133/10;C08K7/24;C08L33/08;C08J7/046
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 趙丹;尚光遠

1.一種抗反射膜，包括：硬涂層，和

低折射率層，所述低折射率層包含粘合劑樹脂、和分散在所述粘合劑樹脂中并且具有不同粒徑的兩種或更多種類型的中空無機顆粒，

其中具有不同粒徑的所述兩種或更多種類型的中空無機顆粒包含一種類型的具有通過動態光散射DLS測量的40nm至60nm的粒徑的中空無機顆粒，和一種類型的具有通過動態光散射DLS測量的65nm至100nm的粒徑的中空無機顆粒，

其中所述低折射率層滿足以下方程式1：

[方程式1]

0.2％p≥ΔR＝|R₁-R₀|

在方程式1中，

R₀為所述低折射率層在380nm至780nm的波長范圍內的平均反射率，

R₁為在進行摩擦測試之后，對于所述低折射率層，以與R₀的測量方法中相同的方式測量的在380nm至780nm的波長范圍內的平均反射率，在所述摩擦測試中，通過向鋼絲絨施加500g的負荷并以33rpm的速度往復運動十次來摩擦所述低折射率層的表面，以及

ΔR為在所述摩擦測試之前和之后的平均反射率的變化程度。

2.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中

方程式1中的R₀值為0.1％至2.0％。

3.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中

方程式1中的R₁值為0.3％至2.2％。

4.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中

所述低折射率層滿足以下方程式2：

[方程式2]

1≥Δb^*＝|b^*₁-b^*_o|

在方程式2中，

b^*₀為由國際照明委員會定義的CIE L^*a^*b^*色坐標系中的b^*值，

b^*₁為在進行摩擦測試之后，對于所述低折射率層，以與b^*₀的測量方法中相同的方式測量的CIE L^*a^*b^*色坐標系中的b^*值，在所述摩擦測試中，通過向鋼絲絨施加500g的負荷并以33rpm的速度往復運動十次來摩擦所述低折射率層的表面，以及

Δb^*為在所述摩擦測試之前和之后的b^*值的變化程度。

5.根據權利要求4所述的抗反射膜，其中

方程式2中的b^*₀值為2至-10。

6.根據權利要求4所述的抗反射膜，其中

方程式2中的b^*₁值為3至-9。

7.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中

所述粘合劑樹脂包含多官能(甲基)丙烯酸酯類單體的共聚物，所述多官能(甲基)丙烯酸酯類單體包含二官能至四官能(甲基)丙烯酸酯類單體和五官能或六官能(甲基)丙烯酸酯類單體。

8.根據權利要求7所述的抗反射膜，其中

所述二官能至四官能(甲基)丙烯酸酯類單體與所述五官能或六官能(甲基)丙烯酸酯類單體之間的重量比為9:1至6:4。

9.根據權利要求1所述的抗反射膜，其中

具有40nm至60nm的粒徑的中空無機顆粒與具有65nm至100nm的粒徑的中空無機顆粒之間的重量比為7:3至3:7。