[發明專利]確定用于量測設備的最佳聚焦高度的方法

有效

• 申請號: 201980011519.0
• 申請日: 2019-01-10
• 公開（公告）號: CN111727407B
• 公開（公告）日: 2023-06-20
• 發明（設計）人: M·V·梅德韋久瓦;A·齊亞托馬斯;H·A·J·克瑞姆;M·H·M·范維爾特;B·O·夫艾格金格奧爾;尚曉昕;J·M·范博克斯梅爾;B·韋斯特拉特恩
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B7/38
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 張啟程

1.一種確定用于量測過程的最佳聚焦高度的方法，包括：

從所述量測過程至目標的多次應用獲得測量數據，其中：

所述量測過程的每次應用包括利用輻射斑來照射所述目標并檢測由所述目標改變方向的輻射；

所述量測過程的所述應用包括在不同名義聚焦高度處的應用；

針對所述量測過程的每次應用，所述測量數據包含被重新引導的輻射的光學特性在光瞳平面中的檢測到的光瞳表示的至少一個分量；以及

所述方法包括使用所獲得的測量數據來確定所述量測過程的最佳聚焦高度，

其中所述最佳聚焦高度使得：與當所述量測過程在名義上被配置成在與所述目標的上表面齊平的高度處聚焦所述輻射斑時相比，當所述量測過程在名義上被配置成在所述最佳聚焦高度處聚焦所述輻射斑時，減小所述檢測到的光瞳表示對偏離所述輻射斑與所述目標之間的精確對準和所述最佳聚焦高度中的任一者或兩者的偏差的敏感度。

2.根據權利要求1所述的方法，包括：

針對所述量測過程的所述應用中的每次應用，通過數學展開式的一組系數來表示所述檢測到的光瞳表示的分量；以及

通過分析所述系數中的一個或更多個系數的作為聚焦高度的函數的變化來確定所述最佳聚焦高度。

3.根據權利要求2所述的方法，其中所述檢測到的光瞳表示的所述分量包括所述光學特性在所述光瞳平面中的空間分布，并且所述數學展開式由一組二維基函數來限定。

4.根據權利要求2或3所述的方法，其中：

針對所述量測過程的所述應用中的每次應用，通過所述數學展開式的第一組系數來表示所述檢測到的光瞳表示的對稱分量；以及

所述最佳聚焦高度的所述確定包括：針對所述第一組系數的所述系數中的一個或更多個系數中的每個系數，識別所述系數的作為聚焦高度的函數的變化的極值。

5.根據權利要求4所述的方法，其中所述最佳聚焦高度的所述確定包括：獲得聚焦高度的與所識別的極值相對應的加權平均值。

6.根據權利要求5所述的方法，其中針對每個聚焦高度的加權基于相應的所述系數的作為聚焦高度的函數的所述變化在相應極值下的曲率，其中較大加權被給予較大量值的曲率。

7.根據權利要求4至6中任一項所述的方法，其中所述對稱分量相對于所述光瞳平面中的參考點是點對稱的，或相對于所述光瞳平面中的參考線是鏡象對稱的。

8.根據權利要求2至7中任一項所述的方法，其中：

針對所述量測過程的所述應用中的每次應用，通過所述數學展開式的第二組系數來表示所述檢測到的光瞳表示的不對稱分量；

所述量測過程的所述應用包括在所述輻射斑相對于所述目標的不同名義對準下的應用；并且

所述最佳聚焦高度的所述確定包括：針對所述第二組系數的所述系數中的一個或更多個系數中的每個系數，識別在所述系數的作為所述輻射斑在平行于襯底的平面中的位置的函數的變化被最小化時的聚焦高度。

9.根據權利要求8所述的方法，其中所述最佳聚焦高度的所述確定包括：獲得所識別的聚焦高度的加權平均值。

10.根據權利要求9所述的方法，其中針對每個所識別的聚焦高度的加權基于在從所述輻射斑與所述目標的精確對準的代表性名義偏差下相應的所述系數的作為聚焦高度的函數的所述變化的梯度，其中較大加權被給予較大量值的梯度。

11.根據權利要求8至10中任一項所述的方法，其中所述不對稱分量相對于所述光瞳平面中的參考點是非點對稱的，或相對于所述光瞳平面中的參考線是非鏡象對稱的。

12.根據任一前述權利要求所述的方法，其中所述最佳聚焦高度的所述確定包括：識別在所述檢測到的光瞳表示的其中不對稱性低于閾值的面積的比例被最大化時的聚焦高度。