[發(fā)明專利]干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201980010704.8 | 申請(qǐng)日： | 2019-02-15 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111699212B | 公開（公告）日： | 2022-11-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 中山慧美;棟泰人;川崎泰史 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 三菱化學(xué)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | C08J7/04 | 分類號(hào)： | C08J7/04;C08J7/044;G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 干膜抗蝕層 基材 聚酯 薄膜 | ||
1.一種干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少單面具有涂布層，
該涂布層中的抗靜電劑的含量為45質(zhì)量％以下，
在該涂布層中含有顆粒，
相對(duì)于對(duì)該涂布層的表面進(jìn)行觀察時(shí)的顆粒在該涂布層表面中所占的面積總計(jì)，粒徑為30～80nm的顆粒AS的面積比率為60～99.9％的范圍內(nèi)，粒徑為100～400nm的顆粒AL的面積比率為0.1～15％的范圍內(nèi)，實(shí)質(zhì)上不含粒徑超過1μm的顆粒。
2.一種干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少單面具有涂布層，
在該涂布層中含有表面活性劑，
在該涂布層中含有顆粒，
相對(duì)于對(duì)該涂布層的表面進(jìn)行觀察時(shí)的顆粒在該涂布層表面中所占的面積總計(jì)，粒徑為30～80nm的顆粒AS的面積比率為60～99.9％的范圍內(nèi)，粒徑為100～400nm的顆粒AL的面積比率為0.1～15％的范圍內(nèi)，實(shí)質(zhì)上不含粒徑超過1μm的顆粒。
3.一種干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少單面具有涂布層，在涂布層中實(shí)質(zhì)上不含無機(jī)鹽，
在該涂布層中含有顆粒，
相對(duì)于對(duì)該涂布層的表面進(jìn)行觀察時(shí)的顆粒在該涂布層表面中所占的面積總計(jì)，粒徑為30～80nm的顆粒AS的面積比率為60～99.9％的范圍內(nèi)，粒徑為100～400nm的顆粒AL的面積比率為0.1～15％的范圍內(nèi)，實(shí)質(zhì)上不含粒徑超過1μm的顆粒。
4.一種干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少單面具有涂布層，在涂布層中實(shí)質(zhì)上不含聚醚化合物，
在該涂布層中含有顆粒，
相對(duì)于對(duì)該涂布層的表面進(jìn)行觀察時(shí)的顆粒在該涂布層表面中所占的面積總計(jì)，粒徑為30～80nm的顆粒AS的面積比率為60～99.9％的范圍內(nèi)，粒徑為100～400nm的顆粒AL的面積比率為0.1～15％的范圍內(nèi)，實(shí)質(zhì)上不含粒徑超過1μm的顆粒。
5.一種干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少單面具有由含有交聯(lián)劑的涂布液形成的涂布層，
該涂布層中的抗靜電劑的含量為45質(zhì)量％以下，
在該涂布層中含有顆粒A-1和顆粒A-2，
該顆粒A-1的平均粒徑為0.001～0.06μm，
該顆粒A-2的平均粒徑為0.06～1.0μm。
6.一種干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少單面具有由含有交聯(lián)劑的涂布液形成的涂布層，
在該涂布層中含有表面活性劑，
在該涂布層中含有顆粒A-1和顆粒A-2，
該顆粒A-1的平均粒徑為0.001～0.06μm，
該顆粒A-2的平均粒徑為0.06～1.0μm。
7.一種干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少單面具有由含有交聯(lián)劑的涂布液形成的涂布層，
在該涂布層中實(shí)質(zhì)上不含無機(jī)鹽，
在該涂布層中含有顆粒A-1和顆粒A-2，
該顆粒A-1的平均粒徑為0.001～0.06μm，
該顆粒A-2的平均粒徑為0.06～1.0μm。
8.一種干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少單面具有由含有交聯(lián)劑的涂布液形成的涂布層，
在該涂布層中實(shí)質(zhì)上不含聚醚化合物，
在該涂布層中含有顆粒A-1和顆粒A-2，
該顆粒A-1的平均粒徑為0.001～0.06μm，
該顆粒A-2的平均粒徑為0.06～1.0μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的干膜抗蝕層基材用聚酯薄膜，其中，具有所述涂布層的表面的平均表面粗糙度(Ra)為1～10nm的范圍內(nèi)。
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