[發明專利]用于偏移測量的自校準底座站

在審

• 申請號: 201980010248.7
• 申請日: 2019-01-25
• 公開（公告）號: CN111742192A
• 公開（公告）日: 2020-10-02
• 發明（設計）人: S.帕特爾;B.帕羅特;A.阿拉布;F.阿卜杜拉蒂夫;P.卡拉斯科扎尼尼
• 申請（專利權）人: 沙特阿拉伯石油公司
• 主分類號: G01C15/00
• 分類號: G01C15/00;G01B5/00;G01B5/02;G01B11/24;G01F17/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 王增強

1.一種自校準系統，所述自校準系統使參考束與位置傳感器對準，所述系統包括：

底座站，所述底座站包含產生并發射所述參考束的束源，

其中所述底座站包括底座水平傳感器和束水平傳感器中的至少一個，并且

其中所述底座站調節所述參考束的束角度、束扇角、束強度和束接通/斷開狀況中的至少一個。

2.根據權利要求1所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

底座，所述底座附接到罐壁。

3.根據權利要求1所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

平臺，所述平臺支撐所述束源。

4.根據權利要求3所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

底座，所述底座附接到罐壁，

其中所述平臺基本上垂直于所述底座。

5.根據權利要求3所述的自校準系統，其中所述底座水平傳感器定位在所述平臺上。

6.根據權利要求1所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

束支撐底座，所述束支撐底座固定地固持所述束源，

其中所述束水平傳感器定位在所述束支撐底座上。

7.根據權利要求1所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

束調平底座，所述束調平底座調節所述參考束。

8.根據權利要求7所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

束支撐底座，所述束支撐底座固定地固持所述束源，

其中所述束支撐底座機械聯接到或電耦接到所述束調平底座，并且

其中所述束調平底座調節所述束支撐底座的位置。

9.根據權利要求2所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

支腿，所述支腿調節以改變所述底座的第一表面與所述罐壁的表面之間的空間。

10.根據權利要求1所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

磁體，所述磁體附接到罐壁或機器人以相對于所述罐壁將所述底座站固持處于適當位置。

11.根據權利要求10所述的自校準系統，其中所述底座站進一步包括：

另一個磁體，所述另一個磁體選擇性地接通/斷開以將所述底座站固定到所述罐壁或所述機器人，并且阻止所述底座站相對于所述罐壁或所述機器人在至少一個平面內移動。

12.根據權利要求11所述的自校準系統，其中所述另一個磁體包括電磁體或可切換磁體。

13.根據權利要求7所述的自校準系統，其中所述束調平底座在真實世界坐標系統的至少兩個平面內調節所述參考束。

14.根據權利要求7所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

底座，所述底座附接到罐壁或機器人，

其中所述束調平底座圍繞與所述底座的表面垂直的軸線旋轉地調節。

15.根據權利要求7所述的自校準系統，其中所述底座站包括：

平臺，所述平臺支撐所述束源，

其中所述平臺具有縱軸，并且

其中所述束調平底座圍繞所述縱軸旋轉地調節。

16.根據權利要求15所述的自校準系統，其中所述束調平底座圍繞所述縱軸旋轉0度到180度。