[發明專利]用于生產原子量子簇的方法

有效

• 申請號: 201980009957.3
• 申請日: 2019-01-24
• 公開（公告）號: CN111712338B
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發明（設計）人: 曼紐爾·阿圖羅·洛佩斯金特拉;大衛·布塞塔費爾南德斯
• 申請（專利權）人: 納米隙亞納米粉末有限公司;圣地亞哥德孔波斯特拉大學
• 主分類號: B22F9/24
• 分類號: B22F9/24;B22F1/054;B22F1/10;B22F1/0545;B82Y40/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 蔡勝有;蘇虹

1.一種用于生產原子量子簇(AQC)的方法，包括以下步驟：

a)提供混合物，所述混合物包含：

-皮摩爾至微摩爾濃度的起始原子量子簇，所述起始原子量子簇由選自以下的過渡金屬形成：鉑(Pt)、金(Au)、銠(Rh)、銥(Ir)、鈀(Pd)、釕(Ru)、鋨(Os)、銀(Ag)、銅(Cu)、鐵(Fe)、鈷(Co)、鎳(Ni)、鈦(Ti)、釩(V)、鉻(Cr)或者其雙金屬和多金屬組合，

-金屬鹽，其中所述金屬鹽的金屬選自銀、鉑、鈀、金、銅、銥、銠、釕、鎳、鐵、鈷、或者其雙金屬和多金屬組合，

-極性溶劑，

-空穴清除劑，所述空穴清除劑的標準電極電勢低于所述起始原子量子簇的最高占據分子軌道(HOMO)，

其中所述金屬鹽和所述空穴清除劑能夠溶于所述極性溶劑并且彼此不反應；

其中所述混合物中所述空穴清除劑的當量數高于所述金屬鹽的當量數；

b)向步驟a)的所述混合物施加促進劑，其中所述促進劑是能量等于或大于步驟a)的所述混合物的所述起始原子量子簇的HOMO-LUMO間隙的光輻射；以及

c)添加氧化劑，所述氧化劑的標準電極電勢高于所述金屬鹽的金屬的標準電極電勢；

其中能夠將所述氧化劑添加在步驟(a)的所述混合物中，和/或在步驟(b)中的施加所述促進劑期間和/或之后添加到所述混合物中。

2.根據權利要求1所述的方法，其中所述混合物中的氧化劑的量高于金屬鹽的量。

3.根據權利要求1所述的方法，其中步驟a)的所述極性溶劑選自水、乙腈、氯仿、二氯甲烷、乙酸、甲苯及其混合物。

4.根據權利要求1所述的方法，其中所述空穴清除劑選自具有2至6個碳原子的線性或支化的醇。

5.根據權利要求1所述的方法，其中所述空穴清除劑選自氫醌、碘化物鹽、草酸、乙酸、甲酸、甲酸鈉、亞硫酸鹽及其混合物。

6.根據權利要求1所述的方法，其中步驟a)中的所述金屬鹽為選自以下的銀鹽：溴酸銀、亞溴酸銀、氯酸銀、高氯酸銀、亞氯酸銀、氟化銀、硝酸銀、亞硝酸銀、乙酸銀、高錳酸銀及其混合物。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述氧化劑選自硝酸、過氧化氫、高錳酸鹽、高氯酸鹽、臭氧、過硫酸鹽、次氯酸鹽、亞氯酸鹽、次溴酸鹽、亞溴酸鹽、過鉻酸鹽及其混合物。

8.根據權利要求1所述的方法，其中步驟a)的所述混合物包含：

-1×10^-12M至1×10^-6M的原子量子簇，

-0.1mM至1M的金屬鹽，

-1mM至10M的所述氧化劑，

-1％體積/體積至90％體積/體積的空穴清除劑，和

-10％體積/體積至99％體積/體積的極性溶劑。

9.根據權利要求1所述的方法，其中步驟a)的所述混合物包含納摩爾濃度的原子量子簇。

10.根據權利要求9所述的方法，其中以高于10％的產率生產原子量子簇。

11.根據權利要求9所述的方法，其中以至少毫克的規模生產原子量子簇。