[發(fā)明專利]發(fā)光性薄膜、發(fā)光性層疊膜、有機電致發(fā)光元件及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980009449.5 | 申請日: | 2019-01-09 |
| 公開(公告)號: | CN111656550B | 公開(公告)日: | 2023-04-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 中村優(yōu)太;井上曉 | 申請(專利權(quán))人: | 柯尼卡美能達株式會社 |
| 主分類號: | H10K50/11 | 分類號: | H10K50/11;H05B33/10;H05B33/26;H10K71/40;H10K85/10;H10K85/60;H10K85/30;H10K50/12;H10K71/00 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會專利商標事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 賈成功 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 薄膜 層疊 有機 電致發(fā)光 元件 及其 制造 方法 | ||
1.一種發(fā)光性薄膜,其為含有發(fā)光性化合物A的發(fā)光性薄膜,其特征在于,
相對于該發(fā)光性化合物A,含有0.0001質(zhì)量%以上的所述發(fā)光性化合物A的氧化物B,
所述發(fā)光性化合物A為磷光發(fā)光性絡(luò)合物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光性薄膜,其特征在于,所述磷光發(fā)光性絡(luò)合物為包含5元雜環(huán)式骨架的磷光發(fā)光性絡(luò)合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光性薄膜,其特征在于,所述氧化物B的分子量滿足下述式(1),
式(1)???Mw(B)=Mw(A)+(16m+18n)
式中,Mw(A)表示發(fā)光性化合物A的分子量;Mw(B)表示氧化物B的分子量,m、n各自表示0或整數(shù),但是,m+n≥1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光性薄膜,其特征在于,相對于所述發(fā)光性化合物A,所述氧化物B的含量為0.001~100質(zhì)量%的范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光性薄膜,其特征在于,所述氧化物B具有羥基、酚性羥基、環(huán)氧基或羰基中的任一者。
6.一種發(fā)光性層疊膜,其為依次具備第1層及第2層的發(fā)光性層疊膜,其特征在于,所述第1層為權(quán)利要求1-5中任一項所述的發(fā)光性薄膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光性層疊膜,其特征在于,所述第2層含有:具有孤電子對的化合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的發(fā)光性層疊膜,其特征在于,所述具有孤電子對的化合物為含氮化合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光性層疊膜,其特征在于,所述第2層含有氟化合物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的發(fā)光性層疊膜,其特征在于,所述氟化合物在常溫、常壓下作為氟溶劑來發(fā)揮功能。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的發(fā)光性層疊膜,其特征在于,所述氟溶劑的含量為0.01~10質(zhì)量%的范圍內(nèi)。
12.一種有機電致發(fā)光元件,其特征在于,在一對電極之間具有權(quán)利要求1-5中任一項所述的發(fā)光性薄膜、或權(quán)利要求6-11中任一項所述的發(fā)光性層疊膜。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的有機電致發(fā)光元件,其特征在于,所述電極中的至少一者的功函數(shù)為4.2eV以上。
14.一種發(fā)光性薄膜的制造方法,其為制造權(quán)利要求1-5中任一項所述的發(fā)光性薄膜的發(fā)光性薄膜的制造方法,其特征在于,具有:
在基材上在大氣環(huán)境下使用涂布液A來形成第1涂膜的工序A;和
在所述工序A之后在大氣環(huán)境下的常壓加熱干燥以外的干燥工序。
15.一種發(fā)光性層疊膜的制造方法,其為制造權(quán)利要求6-11中任一項所述的發(fā)光性層疊膜的發(fā)光性層疊膜的制造方法,其特征在于,具有:
在基材上在大氣環(huán)境下使用涂布液A來形成第1涂膜的工序A;
在所述工序A之后在大氣環(huán)境下經(jīng)過常壓加熱干燥以外的干燥工序,在所述第1涂膜上在大氣環(huán)境下使用與所述涂布液A不同的涂布液B來形成第2涂膜的工序B;和
在所述工序B之后在大氣環(huán)境下進行干燥的工序C,
且依次具備所述第1涂膜及所述第2涂膜。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于柯尼卡美能達株式會社,未經(jīng)柯尼卡美能達株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201980009449.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





