[發明專利]用于控制等離子體性能的方法和系統

在審

• 申請號: 201980009430.0
• 申請日: 2019-01-21
• 公開（公告）號: CN111630623A
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: 麥里特·法克;梅根·多佩爾;茂山和基;切爾西·杜博斯;賈斯廷·莫塞斯
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 陳煒;李德山

1.一種在用于處理襯底的系統中控制等離子體性能的方法，該方法包括：

以第一組功率參數向等離子體室供應功率；

使用該第一組功率參數在該等離子體室內形成等離子體；

測量以該第一組功率參數耦合到該等離子體的功率；

以第二組功率參數向該等離子體室供應功率；

測量以到該等離子體的該第二組功率參數耦合到該等離子體的功率；以及

至少部分地基于對以該第二組功率參數耦合的功率的測量來調整該第一組功率參數。

2.如權利要求1所述的方法，其中，測量該第二組功率參數的功率耦合進一步包括測量被配置為向該等離子體室供應功率的電源中的正向功率。

3.如權利要求1所述的方法，其中，測量該第二組功率參數的功率耦合進一步包括測量被配置為向該等離子體室供應功率的電源中的反射功率。

4.如權利要求1所述的方法，其中，測量該第二組功率參數的功率耦合進一步包括測量耦合在該等離子體室與被配置為向該等離子體室供應功率的電源之間的腔中的諧振能量。

5.如權利要求4所述的方法，其中，測量該諧振能量進一步包括在該腔的多個點處進行測量，每個點分隔開已知距離。

6.如權利要求1所述的方法，其中，測量該第二組功率參數的功率耦合進一步包括測量在該等離子體室的界面處的電磁能量。

7.如權利要求1所述的方法，其中，測量該第二組功率參數的功率耦合進一步包括利用光電檢測器裝置以光學方式測量該等離子體。

8.如權利要求1所述的方法，其中，以該第二組功率參數供應功率進一步包括在第一電源與第二電源之間切換，該第一電源被配置為以該第一組功率參數供應功率，該第二電源被配置為以該第二組功率參數供應功率。

9.如權利要求1所述的方法，其中，以該第二組功率參數供應功率進一步包括將根據該第二組功率參數配置的邊帶信號與以該第一組功率參數供應的功率進行混合。

10.如權利要求9所述的方法，其中，使用上變頻器裝置執行混合該邊帶信號，并且使用下變頻器來提取響應信號。

11.如權利要求1所述的方法，其中，該第二組功率參數可在一定參數值范圍內變化。

12.如權利要求11所述的方法，進一步包括：使用從一個或多個測量裝置接收反饋的控制回路來控制該第二組功率參數的設置，每個測量裝置被配置為測量以該第二組功率參數耦合的功率。

13.如權利要求1所述的方法，其中，調整該第一組功率參數通過級聯控制回路來執行，該級聯控制回路被配置為根據級聯控制回路過程來控制該第一組功率參數中的多個組成部分的配置。

14.如權利要求1所述的方法，其中，調整該第一組功率參數進一步包括調整被供應給該等離子體室的功率的頻率。

15.如權利要求1所述的方法，其中，調整該第一組功率參數進一步包括調整被供應給該等離子體室的功率的大小。

16.如權利要求1所述的方法，其中，調整該第一組功率參數進一步包括調整耦合到被配置為向該等離子體室供應功率的電源的機械調諧裝置。

17.如權利要求1所述的方法，其中，調整該第一組功率參數進一步包括調整耦合到被配置為向該等離子體室供應功率電源的電子電磁能量匹配裝置。