[發明專利]基于集成光學的應力光學相位調制器和形成方法有效
| 申請號： | 201980009133.6 | 申請日： | 2019-01-19 |
| 公開（公告）號： | CN111656263B | 公開（公告）日： | 2021-07-02 |
| 發明（設計）人： | A·萊因斯;R·G·海德曼;J·P·埃平 | 申請（專利權）人： | 萊恩尼克斯國際有限責任公司 |
| 主分類號： | G02F1/01 | 分類號： | G02F1/01 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人： | 林彥 |
| 地址： | 荷蘭恩*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 集成 光學 應力 相位 調制器 形成 方法 | ||
1.一種相位控制器，其包括：
表面波導，其能夠操作用于傳送光信號，所述表面波導包括：
第一包層，其具有第一場區和從所述第一場區突出的柱狀脊；
安置于所述柱狀脊上的芯，其中所述芯具有限定第一平面的第一表面，且其中所述芯和所述柱狀脊共同地限定隆脊；及
第二包層，其包含第二場區和從所述第二場區突出的突起，其中所述第二包層保形地安置于所述第一場區和所述隆脊上，以使得所述隆脊和所述第二包層共同限定所述突起，且其中所述第二場區具有限定第二平面的第二表面，且另外其中所述突起具有第三表面；及
相位控制元件，其安置于所述表面波導上，所述相位控制元件包括：
與所述第三表面直接接觸的第一電極；
在所述第三表面的遠端的第二電極；及
在所述第一電極與所述第二電極之間的壓電層；
其中所述相位控制元件包含第一應力集中點。
2.根據權利要求1所述的相位控制器，其中所述光信號具有模場，所述模場具有第一形狀，且其中所述第三表面具有與所述第一形狀匹配的第二形狀，且其中所述相位控制元件具有所述第二形狀。
3.根據權利要求1所述的相位控制器，其中所述第一應力集中點處于所述第一平面或在所述第一平面下方。
4.根據權利要求1所述的相位控制器，其中所述第二電極安置于所述突起和所述第二場區的第一部分上，所述第一部分具有第一寬度。
5.根據權利要求1所述的相位控制器，其中所述表面波導具有在第一區域內的第一形狀，所述第一形狀是蛇形，且其中所述相位控制元件安置于在所述第一區域中的所述表面波導上。
6.根據權利要求5所述的相位控制器，其中所述相位控制元件具有在所述第一區域內的所述第一形狀。
7.一種用于形成相位控制器的方法，所述方法包括：
提供波導，表面波導能夠操作用于傳送具有模場的光信號，所述模場具有第一形狀，所述波導包括：
第一包層，其具有第一場區和從所述第一場區突出的柱狀脊；
安置于所述柱狀脊上的芯，其中所述芯具有限定第一平面的第一表面，且其中所述芯和所述柱狀脊共同地限定隆脊；及
第二包層，其包含第二場區和從所述第二場區突出的突起，其中所述第二包層保形地安置于所述第一場區和所述隆脊上，以使得所述隆脊和所述第二包層共同限定所述突起，且其中所述第二場區具有限定第二平面的第二表面，且另外其中所述突起具有第三表面；及
形成相位控制元件，所述相位控制元件包括：
與所述第三表面直接接觸的第一電極；
在所述第三表面的遠端的第二電極；及
在所述第一電極與所述第二電極之間的壓電層；
其中所述相位控制元件包含第一應力集中點。
8.根據權利要求7所述的方法，其中所述第三表面具有與所述第一形狀匹配的第二形狀，且其中所述相位控制元件經形成以使得其具有所述第二形狀。
9.根據權利要求7所述的方法，其中所述第一應力集中點處于所述第一平面或在所述第一平面下方。
10.根據權利要求7所述的方法，其進一步包括通過包括以下的操作形成所述第一包層：
提供安置于襯底上的第一包覆層，所述第一包覆層具有第一厚度和第四表面；
在所述第四表面上形成至少一個芯層；
圖案化所述至少一個芯層以限定所述芯和所述第一場區；及
在所述第一場區中蝕刻所述第一包覆層以將其厚度減小到第二厚度且限定所述第二表面。
11.根據權利要求10所述的方法，其進一步包括通過經由保形沉積工藝在所述隆脊和第一場區上沉積第一材料而形成所述第二包層。
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