[發明專利]基于局部照明補償的運動補償雙向預測在審
| 申請號: | 201980007961.6 | 申請日: | 2019-01-15 |
| 公開(公告)號: | CN111630855A | 公開(公告)日: | 2020-09-04 |
| 發明(設計)人: | 修曉宇;賀玉文;葉艷;索拉夫·班德亞帕德耶 | 申請(專利權)人: | VID拓展公司 |
| 主分類號: | H04N19/105 | 分類號: | H04N19/105;H04N19/176;H04N19/137;H04N19/583;H04N19/577 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205 | 代理人: | 馬爽;臧建明 |
| 地址: | 美國特拉華*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 局部 照明 補償 運動 雙向 預測 | ||
本申請描述了用于計算雙向預測譯碼單元(CU)的局部照明補償(LIC)參數的系統、方法和手段。LIC參數可以用于生成當前CU的調整樣本并且用于解決時間相鄰圖片之間可能存在的局部照明變化。可以基于雙向預測參考模板樣本和當前CU的模板樣本來計算LIC參數。可以基于鄰近時間參考CU的參考模板樣本生成雙向預測參考模板樣本。例如,可以基于對參考模板樣本求平均來生成雙向預測參考模板樣本。參考模板樣本可以對應于當前CU的模板樣本。CU可以是或可以包括譯碼塊和/或可以通過劃分譯碼塊而推導的子塊。
相關申請的交叉引用
本申請要求2018年1月16日提交的美國臨時申請序列號62/617,964、2018年3月23日提交的美國臨時申請序列號62/647,273、以及2018年12月31日提交的美國臨時申請序列號62/786,671的權益,其內容通過引用并入本文。
背景技術
視頻譯碼系統可用于壓縮視頻信號,例如,以減少這些信號的存儲空間和/或傳輸帶寬。存在各種類型的視頻譯碼系統,諸如基于塊的、基于小波的、基于對象的系統、基于塊的混合視頻譯碼系統和/或類似系統。基于塊的視頻譯碼系統可以支持國際視頻譯碼標準,例如MPEG1/2/4部分2、H.264/MPEG-4第10部分AVC、VC-1、和/或高效率視頻譯碼(HEVC)。
發明內容
本文公開了用于基于雙向預測的參考模板樣本和模板樣本計算局部照明補償(LIC)參數的系統、方法和手段。計算的LIC參數可用于解決時間相鄰圖片之間可能存在的局部照明變化。例如,針對當前譯碼單元(CU)計算的的LIC參數可用于生成當前CU的調整樣本以解決局部照明變化。
可以處理視頻CU。舉例來說,視頻CU可為或可包含譯碼塊或子塊。可以通過劃分常規譯碼塊來推導子塊。可以在視頻比特流中接收當前CU。
可以雙向預測當前CU。可以確定當前CU是否是雙向預測的。如果當前CU是雙向預測的,則可以識別與當前CU相關聯的參考模板樣本。舉例來說,參考模板樣本可與當前CU的時間參考CU相鄰。參考模板樣本可以對應于與當前CU相鄰的當前CU的模板樣本。例如,當前CU的模板樣本可以是當前CU的相鄰樣本。可以例如基于當前CU的運動矢量來識別與時間參考CU相鄰的參考模板樣本。
可以基于參考模板樣本生成雙向預測的參考模板樣本。例如,可以基于對與時間參考CU相鄰的參考模板樣本求平均來生成雙向預測的參考模板樣本。可以識別當前CU的參考模板樣本。參考模板樣本可以與當前CU的時間參考CU相鄰,其對應于當前CU的模板樣本。
雙向預測的參考模板樣本可用于計算LIC參數。例如,可以基于生成的雙向預測的參考模板樣本和當前CU的模板樣本來計算LIC參數。在示例中,可以通過最小化雙向預測的參考模板樣本與當前CU的模板樣本之間的差異來計算LIC參數。可以基于最小均方差(LMSE)方法來最小化雙向預測的參考模板樣本與當前CU的模板樣本之間的差異。在示例中,可以基于使用與雙向預測的參考模板樣本和當前CU的模板樣本相關聯的最小值和最大值的線性模型方法來計算LIC參數。計算的LIC參數可以應用于雙向預測的CU并且生成經調整的雙向預測的當前CU。
可以在重疊塊運動補償(OBMC)階段應用LIC參數。例如,可確定當前CU的子塊是否在當前CU的邊界處。如果當前CU的子塊處于當前CU的邊界處,則可識別子塊的一個或多個相鄰子塊。可以將與相鄰子塊相關聯的一個或多個運動矢量應用于子塊中的樣本以推導一個或多個模板參考樣本。可以基于模板參考樣本生成OBMC預測的樣本。例如,可以基于對模板參考樣本求平均來生成OBMC預測的樣本。LIC參數可以應用于生成的OBMC預測的樣本。在示例中,在運動補償階段計算的LIC參數可以緩存在存儲器或緩沖器中,并且可以在OBMC階段使用。在示例中,LIC參數可以從存儲器或緩沖器中取出,并且可以在OBMC階段使用。
在示例中,可以識別當前CU的模板樣本。可以對模板樣本進行二次采樣。可以基于二次采樣的模板樣本來計算LIC參數。例如,可以在二次采樣的模板樣本中識別當前CU的模板樣本。
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