[發(fā)明專利]光學膜組件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980007277.8 | 申請日： | 2019-01-03 |
| 公開（公告）號： | CN111602086A | 公開（公告）日： | 2020-08-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 特里·D·彭;科里·D·巴茨;弗利克斯·B·比爾鮑姆;郝恩才;西蒙·P·簡茨科;托馬斯·J·盧德曼;特雷弗·W·施托爾;王慶兵;約瑟夫·D·惠爾登 | 申請（專利權(quán)）人： | 3M創(chuàng)新有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/13357 | 分類號： | G02F1/13357;F21V8/00 |
| 代理公司： | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人： | 顧紅霞;張蕓 |
| 地址： | 美國明*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學 組件 | ||
本發(fā)明公開一種光學膜組件，包括光重定向膜(110)，光重定向膜(110)具有第一結(jié)構(gòu)化主表面(112)和相背對的第二主表面(114)。光學粘合劑層(120)設(shè)置在光重定向膜的第二主表面上。光漫射膜(140)包括第一主表面(142)和相背對的第二主表面(144)，第一主表面(142)包括光漫射表面。多個分立光學解耦結(jié)構(gòu)(146)從光漫射表面突出并且接觸光學粘合劑層。氣隙(148)限定在光漫射膜的第一主表面和光學粘合劑層之間。本文所述的光學膜組件的實施方案例如可用于隱藏光學缺陷并且提高光源所發(fā)射光的亮度均勻性。
本申請要求2018年1月8日提交的美國臨時專利申請62/614709的權(quán)益，該臨時專利申請的公開內(nèi)容全文以引用方式并入本文。
背景技術(shù)
顯示系統(tǒng)(諸如液晶顯示(LCD)系統(tǒng))用于多種應(yīng)用和可商購獲得的裝置(例如，計算機監(jiān)視器、個人數(shù)字助理(PDA)、移動電話、微型音樂播放器、和薄LCD電視)中。大多數(shù)LCD包括液晶面板和用于照射液晶面板的擴展區(qū)域光源(通常稱為背光源)。背光源通常包括至少一個燈以及多個光管理膜(例如光導(dǎo)、反射鏡膜、光重定向膜、延遲膜、光偏振膜和漫射膜)。漫射膜通常被包括以隱藏光學缺陷并提高背光源所發(fā)射光的亮度均勻性。
期望具有另外的漫射體選項來進行選擇以用于各種應(yīng)用。
發(fā)明內(nèi)容
在一個方面，本公開描述一種光學膜組件，包括光重定向膜，所述光重定向膜具有第一結(jié)構(gòu)化主表面和相背對的第二主表面。光學粘合劑層設(shè)置在所述光重定向膜的所述第二主表面上。光漫射膜包括第一主表面和相背對的第二主表面，所述第一主表面包括光漫射表面。多個分立光學解耦結(jié)構(gòu)從所述光漫射表面突出并且接觸所述光學粘合劑層。氣隙限定在所述光漫射膜的所述第一主表面和所述光學粘合劑層之間。
在另一個方面，本公開描述一種光學膜組件，包括光重定向膜，所述光重定向膜具有第一結(jié)構(gòu)化主表面和相背對的第二主表面。光學粘合劑層設(shè)置在所述光重定向膜的所述第二主表面上。光漫射膜包括第一主表面和相背對的第二主表面。光漫射膜的第一主表面限定有微結(jié)構(gòu)化表面，所述微結(jié)構(gòu)化表面包括光漫射表面和多個分立光學解耦結(jié)構(gòu)。所述光學解耦結(jié)構(gòu)中的每一個具有在所述光漫射膜的所述第一主表面處的第一端部和接觸所述光學粘合劑層的相反的第二端部。氣隙限定在所述光漫射膜的所述第一主表面和所述光學粘合劑層之間。
本文所述的光學膜組件的實施方案例如可用于隱藏光學缺陷并且提高背光源或其它光源所發(fā)射光的亮度均勻性。
附圖說明
圖1A為根據(jù)本公開的實施方案的例示性光學膜組件的側(cè)視圖；
圖1B為圖1A中示出的光重定向膜的透視圖；
圖1C為根據(jù)一些實施方案的圖1A示出的光漫射膜的一部分的側(cè)視圖；
圖2示出了根據(jù)本公開的實施方案的例示性光學膜組件；
圖3為根據(jù)各種實施方案的樣品光漫射膜的掃描電鏡圖像(本文稱為SEM)，該樣品光漫射膜具有包括光漫射表面和光學解耦結(jié)構(gòu)的圖案化層；
圖4為根據(jù)各種實施方案的樣品光漫射膜的SEM，該樣品光漫射膜具有包括光漫射表面和光學解耦結(jié)構(gòu)的圖案化層；
圖5A和圖5B示出了根據(jù)各種實施方案的光學解耦結(jié)構(gòu)的前視圖和側(cè)視圖；
圖6為根據(jù)各種實施方案的光學解耦結(jié)構(gòu)的橫截面輪廓；
圖7A為根據(jù)一些實施方案的光學解耦結(jié)構(gòu)的橫截面；
圖7B為根據(jù)一些其它實施方案的光學解耦結(jié)構(gòu)的橫截面；
圖8為根據(jù)另外的實施方案的光學解耦結(jié)構(gòu)的橫截面；
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于3M創(chuàng)新有限公司，未經(jīng)3M創(chuàng)新有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201980007277.8/2.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學；光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
