[發明專利]放射治療系統和方法有效
| 申請號: | 201980005988.1 | 申請日: | 2019-02-02 |
| 公開(公告)號: | CN111417436B | 公開(公告)日: | 2022-07-15 |
| 發明(設計)人: | 汪鵬;倪成;余興恩 | 申請(專利權)人: | 上海聯影醫療科技股份有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/00 | 分類號: | A61B6/00 |
| 代理公司: | 成都七星天知識產權代理有限公司 51253 | 代理人: | 袁春曉 |
| 地址: | 201807 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 放射 治療 系統 方法 | ||
本申請涉及一種治療裝置,其包括被配置為獲取關于感興趣的區域的MRI數據的MRI裝置。MRI裝置可以包括沿軸同軸布置的至少兩個主磁場線圈。MRI裝置還可包括沿所述軸同軸布置的至少兩個屏蔽線圈。屏蔽線圈中至少一個的電流與主磁場線圈中的電流為同一方向。
技術領域
本申請總體上涉及一種放射治療系統,尤其涉及一種結合了放射治療和磁共振成像技術的圖像引導放射治療系統。
背景技術
當前,在不同治療階段中,難以追蹤腫瘤的變化(例如,運動),這影響了對腫瘤的放射治療。如今,各種成像技術可以在每次治療之前或過程中提供腫瘤的圖像。例如,可以將磁共振成像(MRI)裝置與放射治療裝置結合使用以提供腫瘤的MRI圖像。組合MRI裝置和放射治療裝置形成治療裝置,在相對緊湊的空間內布置MRI裝置的組件(例如,至少兩個主磁場線圈、至少兩個磁性屏蔽線圈)和放射治療裝置的組件(例如,線性加速器)而不造成干擾的過程中可能會遇到困難。例如,對于放射治療裝置的無源屏蔽技術,例如在放射治療裝置的線性加速器周圍提供屏蔽結構,可能會對主磁場線圈的高強度(例如1.5T)產生不良影響。因此,期望提供一種具有高治療質量并且還具有緊湊結構的治療裝置。
發明內容
根據本申請的一方面,提供了一種治療裝置,該治療裝置包括磁共振成像(MRI)裝置,其被配置為獲取關于感興趣區域(ROI)的MRI數據。所述MRI裝置可以包括主磁體,所述主磁體包括沿軸同軸布置的至少兩個主磁場線圈。所述MRI裝置還包括至少兩個屏蔽線圈,所述至少兩個屏蔽線圈包括沿所述軸同軸布置的第一屏蔽線圈、第二屏蔽線圈和屏蔽線圈組。所述屏蔽線圈組位于第一屏蔽線圈和第二屏蔽線圈之間。
在一些實施例中,所述屏蔽線圈組包括沿所述軸同軸布置的第一線圈組和第二線圈組。
在一些實施例中,所述第一線圈組或所述第二線圈組包括第一線圈和第二線圈。
在一些實施例中,所述第一線圈和所述第二線圈同心布置。
在一些實施例中,所述第一線圈內電流的方向與所述第二線圈內電流的方向相反。
在一些實施例中,所述第一線圈或所述第二線圈的半徑大于所述至少兩個主磁場線圈的半徑。
在一些實施例中,所述第一線圈的半徑大于所述第二線圈的半徑。
在一些實施例中,該裝置還包括環形低溫恒溫器。所述環形低溫恒溫器包括圍繞所述軸同軸的至少一個外壁和至少一個內壁,以及在所述至少一個外壁和所述至少一個內壁之間的環形凹槽。所述環形凹槽在所述至少一個外壁處形成開口。
在一些實施例中,所述環形凹槽同軸地位于所述第一線圈組和所述第二線圈組之間。
在一些實施例中,所述環形凹槽的至少一部分徑向地位于所述第一線圈和所述第二線圈之間。
在一些實施例中,該系統進一步包括放射治療裝置,其被配置為將治療輻射應用于ROI的至少一部分。所述放射治療裝置包括線性加速器,其被配置為加速電子束中的電子以產生所述治療輻射的光子束。所述線性加速器至少部分位于環形低溫恒溫器的所述環形凹槽內。所述放射治療裝置還包括一個或以上準直組件,其被配置為使所述治療輻射的光子束成形。
在一些實施例中,所述放射治療裝置的至少一部分同軸地位于所述第一線圈組和所述第二線圈組之間。
在一些實施例中,所述放射治療裝置的至少一部分徑向地位于所述第一線圈和所述第二線圈之間。
根據本申請的另一方面,提供一種磁共振成像(MRI)裝置,其被配置為獲取關于感興趣區域(ROI)的MRI數據。所述MRI裝置包括沿軸同軸布置的至少兩個主磁場線圈,以及沿所述軸同軸布置的至少兩個屏蔽線圈。至少一個所述屏蔽線圈中的電流與所述主磁場線圈中的電流方向相同。
在一些實施例中,所述屏蔽線圈包括具有不同尺寸的第一線圈和第二線圈。
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