[發(fā)明專利]一種屏下指紋系統(tǒng)、光學(xué)指紋顯示模組及電子裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201980003982.0
• 申請(qǐng)日: 2019-07-30
• 公開（公告）號(hào): CN111052136B
• 公開（公告）日: 2023-01-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李順展
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市匯頂科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G06V40/13
• 分類號(hào): G06V40/13;G02F1/1335;G02F1/1333
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 牛芬潔;劉芳

1.一種屏下指紋系統(tǒng)，應(yīng)用于具有顯示模組和背光模組的電子裝置，其特征在于，所述屏下指紋系統(tǒng)包括指紋模組，所述指紋模組設(shè)在所述背光模組和所述顯示模組之間，所述指紋模組和所述顯示模組之間設(shè)有第一擴(kuò)散膜層，所述第一擴(kuò)散膜層用于遮擋所述指紋模組以使得所述指紋模組在所述顯示模組的正面不可見；所述背光模組包括棱鏡膜層，所述第一擴(kuò)散膜層位于所述棱鏡膜層的上方；所述第一擴(kuò)散膜層上分布有擴(kuò)散粒子，所述擴(kuò)散粒子在所述第一擴(kuò)散膜層上朝著所述指紋模組的方向上呈漸進(jìn)式分布。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述指紋模組位于所述背光模組的凹陷結(jié)構(gòu)內(nèi)，以使所述背光模組與所述顯示模組之間存在空氣間隙，其中所述背光模組的凹陷結(jié)構(gòu)形成在所述電子裝置的邊緣區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述第一擴(kuò)散膜層覆蓋在所述凹陷結(jié)構(gòu)和所述指紋模組之上，其中，所述第一擴(kuò)散膜層的可見光霧度不小于70％，且所述第一擴(kuò)散膜層用于將接收到的所述背光模組的出射光重新形成光源平面，并照亮所述顯示模組。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述第一擴(kuò)散膜層上設(shè)有指紋探測(cè)區(qū)域，所述指紋探測(cè)區(qū)域?yàn)樗龅谝粩U(kuò)散膜層上所述指紋模組接收經(jīng)指紋反射產(chǎn)生的反射光時(shí)，所述反射光通過(guò)所述第一擴(kuò)散膜層上的區(qū)域。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述指紋探測(cè)區(qū)域的紅外光霧度不大于20％。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述擴(kuò)散粒子在所述第一擴(kuò)散膜層上的分布密度沿著朝向所述指紋模組的外側(cè)邊緣的方向上逐步遞增。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述擴(kuò)散粒子為微細(xì)顆粒，所述微細(xì)顆粒的粒徑為0.01um-0.10um。

8.根據(jù)權(quán)利要求1中任一所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述擴(kuò)散粒子采用透紅外的擴(kuò)散粒子，以使波長(zhǎng)為910nm-970nm的紅外光透過(guò)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1中任一所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述擴(kuò)散粒子分布在所述第一擴(kuò)散膜層的表面或所述第一擴(kuò)散膜層內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9中任一所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述背光模組包括模組本體，所述模組本體靠近所述指紋模組的一端設(shè)有所述凹陷結(jié)構(gòu)，所述指紋模組位于所述凹陷結(jié)構(gòu)內(nèi)。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述凹陷結(jié)構(gòu)為所述模組本體上形成的下沉式凹陷結(jié)構(gòu)。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述模組本體包括第一水平段、傾斜段和第二水平段，所述傾斜段位于所述第一水平段和所述第二水平段之間，所述傾斜段和所述第二水平段在所述模組本體上形成所述的下沉式凹陷結(jié)構(gòu)。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述第一擴(kuò)散膜層為所述傾斜段和所述第二水平段在所述第一擴(kuò)散膜層上的正投影區(qū)域。

14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述擴(kuò)散粒子在所述第一擴(kuò)散膜層上漸進(jìn)式分布時(shí)，所述擴(kuò)散粒子在所述第一擴(kuò)散膜層上與所述傾斜段相對(duì)應(yīng)的區(qū)域的分布密度小于所述擴(kuò)散粒子在所述第一擴(kuò)散膜層上與所述第二水平段相對(duì)應(yīng)的區(qū)域的分布密度。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種屏下指紋系統(tǒng)，其特征在于，所述第一擴(kuò)散膜層遠(yuǎn)離所述指紋模組的一側(cè)沿著所述顯示模組或所述背光模組的水平方向延伸，直至與所述顯示模組或所述背光模組的端部平齊。