[發明專利]焊料接合部在審
| 申請號: | 201980003606.1 | 申請日: | 2019-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN111630646A | 公開(公告)日: | 2020-09-04 |
| 發明(設計)人: | 日野英治;澤渡広信 | 申請(專利權)人: | JX金屬株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/60 | 分類號: | H01L21/60;B23K1/00;H05K3/34;B23K35/26;C22C12/00 |
| 代理公司: | 北京戈程知識產權代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;何晶 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 焊料 接合部 | ||
1.一種接合部,其使UBM與焊料合金接合,自UBM側依序含有下述的層而成:
自UBM側延續的Ni層、
NiSn合金層、
(Cu、Ni、Pd)αSn合金層、
BiSn合金層、及
朝焊料合金側延續的Bi層。
2.根據權利要求1所述的接合部,其中,NiSn合金層含有Ni、Sn及P,
在NiSn合金層中,與Ni層的邊界處的Ni含量大于與(Cu、Ni、Pd)αSn合金層的邊界處的Ni含量,
在NiSn合金層中,與Ni層的邊界處的Sn含量小于與(Cu、Ni、Pd)αSn合金層的邊界處的Sn含量,
在NiSn合金層中,與Ni層的邊界處的Sn含量為0.4摩爾%以下,
在NiSn合金層中,與Ni層的邊界處的P含量大于與(Cu、Ni、Pd)αSn合金層的邊界處的P含量,
在NiSn合金層中,與(Cu、Ni、Pd)αSn合金層的邊界處的P含量為0.5摩爾%以下。
3.根據權利要求1或2所述的接合部,其中,NiSn合金層含有Ni、Sn及P,
在NiSn合金層中,距與Ni層的邊界的各距離處的Ni含量處于21摩爾%~83摩爾%的范圍,
在NiSn合金層中,距與Ni層的邊界的各距離處的Sn含量處于0.2摩爾%~48摩爾%的范圍,
在NiSn合金層中,距與Ni層的邊界的各距離處的P含量處于0.1摩爾%~10摩爾%的范圍。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的接合部,其中,在NiSn合金層中,與(Cu、Ni、Pd)αSn合金層的邊界處的Bi含量為2摩爾%以下。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的接合部,其中,在NiSn合金層中,距與Ni層的邊界的各距離處的Bi含量處于0.2摩爾%~2摩爾%的范圍。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的接合部,其中,NiSn合金層的厚度處于0.03~0.1[μm]的范圍。
7.根據權利要求2至6中任一項所述的接合部,其中,在NiSn合金層中,與Ni層的邊界處的Cu含量小于與(Cu、Ni、Pd)αSn合金層的邊界處的Cu含量,
在NiSn合金層中,與Ni層的邊界處的Cu含量為4摩爾%以下。
8.根據權利要求2至7中任一項所述的接合部,其中,NiSn合金層進而含有Pd,
在NiSn合金層中,與Ni層的邊界處的Pd含量小于與(Cu、Ni、Pd)αSn合金層的邊界處的Pd含量,
在NiSn合金層中,與Ni層的邊界處的Pd含量為3摩爾%以下。
9.根據權利要求1至8中任一項所述的接合部,其中,Ni層在距與NiSn合金層的邊界0.2[μm]以內的各距離處的Bi含量均為0.2摩爾%以下。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的接合部,其中,(Cu、Ni、Pd)αSn合金層含有Cu、Ni、Pd及Sn,
在(Cu、Ni、Pd)αSn合金層中,距與NiSn合金層的邊界的各距離處的Cu含量處于10摩爾%~22摩爾%的范圍,
在(Cu、Ni、Pd)αSn合金層中,距與NiSn合金層的邊界的各距離處的Ni含量處于13摩爾%~21摩爾%的范圍,
在(Cu、Ni、Pd)αSn合金層中,距與NiSn合金層的邊界的各距離處的Pd含量處于5摩爾%~19摩爾%的范圍,
在(Cu、Ni、Pd)αSn合金層中,距與NiSn合金層的邊界的各距離處的Sn含量處于44摩爾%~55摩爾%的范圍。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于JX金屬株式會社,未經JX金屬株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201980003606.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





