[發明專利]為棋盤格圖像獲取模板的系統和方法

有效

• 申請號: 201980002023.7
• 申請日: 2019-10-15
• 公開（公告）號: CN111630566B
• 公開（公告）日: 2023-09-29
• 發明（設計）人: 邱天;王志誠;陳君麟
• 申請（專利權）人: 香港應用科技研究院有限公司
• 主分類號: G06T7/13
• 分類號: G06T7/13;G06T7/62
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 江耀純

1.一種為棋盤格圖像選擇模板圖像的方法，該方法包括：

使用來自所述棋盤格圖像的樣本區域圖像來分析所述棋盤格圖像，以確定所述模板圖像的模板單元尺寸；

定義像素分析線段，所述像素分析線段被配置為至少部分地基于所述模板單元尺寸來識別所述模板圖像的模板單元邊界；以及

至少部分地基于使用所述像素分析線段識別的所述模板單元邊界，來選擇所述模板圖像；

分析所述棋盤格圖像的像素，所述棋盤格圖像的像素對應于所述棋盤格圖像上的所述像素分析線段的多個像素分析線段的位置；以及

根據所述分析指示出與滿足預定標準的所述多個像素分析線段中的像素分析線段的位置相對應的所述棋盤格圖像的像素，來識別所述模板圖像的模板單元邊界。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述模板單元尺寸和所述模板單元邊界對應于所述棋盤格圖像的圖案單元。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，使用來自所述棋盤格圖像的樣本區域圖像來分析所述棋盤格圖像以確定模板單元尺寸包括：

對所述樣本區域圖像和所述棋盤格圖像進行卷積處理；

從所述卷積處理的結果中，識別出對應于所述棋盤格源圖像的推定圖案單元的位置的一個或多個峰；以及

基于所述一個或多個峰的間距確定所述模板單元的尺寸。

4.根據權利要求3所述的方法，其中，識別出對應于所述棋盤格源圖像的推定圖案單元的位置的一個或多個峰包括：

分析所述卷積處理的結果，以識別局部最大峰值。

5.根據權利要求3所述的方法，其中，基于一個或多個峰的間距來確定所述模板單元的尺寸包括：

關于與所述推定圖案單元在水平和垂直方向上的位置對應的所述一個或多個峰的峰間距，進行向量統計分析，以獲得所述模板單元尺寸。

6.根據權利要求3所述的方法，還包括：

評估對應于所述推定圖案單元位置的所述一個或多個峰的方位，以確定對應于所述推定圖案單元的位置的所述一個或多個峰是否在幾何法線位置。

7.根據權利要求3所述的方法，還包括：

確定對應于所述推定圖案單元位置的所述一個或多個峰的數量是否滿足一個預定閾值；以及

如果所述一個或多個峰的數量滿足所述預定閾值，則繼續確定所述模板單元尺寸；或者

如果所述一個或多個峰的數量不滿足所述預定閾值，則從所述棋盤格圖像中選擇一個不同尺寸的樣本區域圖像，并重復分析棋盤格圖像，以使用所述不同大小的樣本區域圖像來確定所述模板圖像的所述模板單元大小。

8.根據權利要求7所述的方法，其中所述不同尺寸的樣本區域圖像的尺寸小于所述樣本區域圖像的尺寸。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，基于所述分析指示出與滿足預定標準的所述多個像素分析線段中的像素分析線段的位置相對應的所述棋盤格圖像的像素，來識別所述模板圖像的模板單元邊界包括：

確定與所述多個像素分析線段的位置相對應的所述棋盤格圖像的像素的直方圖數據具有相同的屬性。

10.根據權利要求1所述的方法，其中，至少部分地基于所述模板單元尺寸來配置所述多個像素分析線段。

11.根據權利要求10所述的方法，其中，所述多個像素分析線段包括多個水平像素分析線段，所述多個水平像素分析線段在垂直方向上間隔開，間距為所述模板單元尺寸的高度。

12.根據權利要求11所述的方法，其中，所述多個水平像素分析線段的長度大于所述模板單元尺寸的寬度。

13.根據權利要求10所述的方法，其中，所述多個像素分析線段包括多個垂直像素分析線段，所述多個垂直像素分析線段在水平方向上間隔開，間距為所述模板單元尺寸的寬度。