[實用新型]壓板機構及曝光機有效
| 申請號: | 201922502660.0 | 申請日: | 2019-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN212433578U | 公開(公告)日: | 2021-01-29 |
| 發明(設計)人: | 張雷 | 申請(專利權)人: | 蘇州源卓光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 蘇州國誠專利代理有限公司 32293 | 代理人: | 楊淑霞 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓板 機構 曝光 | ||
本實用新型提供一種壓板機構及曝光機,其中,壓板機構包括:曝光臺、位于曝光臺一側的第一壓板結構、活動地位于第一壓板結構相對側的第二壓板結構;第一壓板結構包括:第一壓板以及第一動力單元,第一動力單元驅動第一壓板對曝光臺一側的邊緣施加壓緊作用力;第二壓板結構包括:第二壓板、第二動力單元以及第三動力單元,第二動力單元驅動第二壓板朝向曝光臺施加壓緊作用力,第三動力單元驅動第二壓板和第二動力單元相對第一壓板結構相向或者相背運動。本實用新型的壓板機構能夠對待曝光的PCB板的兩側邊緣進行壓緊,使其保持較好的平整度,進而提高曝光時的曝光精度。同時,本實用新型的壓板機構能夠適應不同尺寸的PCB板的壓緊。
技術領域
本實用新型涉及曝光技術領域,尤其涉及一種壓板機構及曝光機。
背景技術
光刻技術是用于在襯底表面上印刷具有特征的構圖。上述襯底可包括用于制造半導體器件、多種集成電路、平面顯示器(例如液晶顯示器)、電路板、生物芯片、微機械電子芯片、光電子線路芯片等的基片。
直寫光刻技術以替代傳統的掩膜版或菲林底片等曝光的影像直接轉移技術,在半導體及PCB板生產領域有著非常重要的作用。然而,曝光時PCB板的翹曲會對曝光精度造成重要影響。因此,針對如何提高曝光時PCB板的平整度,有必要提出進一步的解決方案。
實用新型內容
本實用新型旨在提供一種壓板機構及曝光機,以克服現有技術中存在的不足。
為解決上述技術問題,本實用新型的技術方案是:
一種壓板機構,其包括:曝光臺、位于所述曝光臺一側的第一壓板結構、活動地位于所述第一壓板結構相對側的第二壓板結構;
所述第一壓板結構包括:第一壓板以及第一動力單元,所述第一動力單元驅動所述第一壓板對所述曝光臺一側的邊緣施加壓緊作用力;
所述第二壓板結構包括:第二壓板、第二動力單元以及第三動力單元,所述第二動力單元驅動所述第二壓板朝向所述曝光臺施加壓緊作用力,所述第三動力單元驅動所述第二壓板和第二動力單元相對所述第一壓板結構相向或者相背運動。
作為本實用新型的壓板機構的改進,所述第一壓板結構結合固定于所述曝光臺一側的邊緣位置處。
作為本實用新型的壓板機構的改進,所述第一壓板包括:第一傳動軸、設置于所述第一傳動軸上且軸向間隔排列的若干第一壓塊。
作為本實用新型的壓板機構的改進,所述第一動力單元為連接于所述第一傳動軸的至少一端。
作為本實用新型的壓板機構的改進,所述第二壓板包括:第二傳動軸、設置于所述第二傳動軸上且軸向間隔排列的若干第二壓塊。
作為本實用新型的壓板機構的改進,所述第二動力單元連接于所述第二傳動軸的至少一端。
作為本實用新型的壓板機構的改進,所述第二動力單元通過其所在的支架與所述第三動力單元傳動連接。
為解決上述技術問題,本實用新型的技術方案是:
一種曝光機,其包括:曝光機構以及如上所述的壓板機構;
所述曝光機構包括:曝光源,所述曝光源下方對應曝光位,所述曝光源對位于所述曝光位的由所述壓板機構固定的產品進行曝光。
作為本實用新型的曝光機的改進,所述曝光臺于上料位和曝光位之間在動力機構的驅動下進行往復運動,且所述第二壓板結構與所述曝光臺同步運動。
作為本實用新型的曝光機的改進,所述曝光源為多個,多個曝光源并排設置于一龍門架上。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘇州源卓光電科技有限公司,未經蘇州源卓光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201922502660.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種電磁離合器
- 下一篇:一種基于車間空氣凈化分離的除塵裝置





