[實用新型]輻射制冷膜有效
| 申請號： | 201922493934.4 | 申請日： | 2019-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN211683857U | 公開（公告）日： | 2020-10-16 |
| 發明（設計）人： | 徐紹禹;楊慧慧;高開;王明輝 | 申請（專利權）人： | 寧波瑞凌新能源科技有限公司 |
| 主分類號： | B32B27/06 | 分類號： | B32B27/06;B32B27/20;B32B27/36;B32B27/30;B32B27/32;F25B23/00 |
| 代理公司： | 杭州華進聯浙知識產權代理有限公司 33250 | 代理人： | 雷志剛 |
| 地址： | 315000 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 輻射 制冷 | ||
1.一種輻射制冷膜，其特征在于，包括層疊設置的第一粘接層、低光澤度保護層以及用于反射光線并將熱量通過大氣窗口進行發射的輻射制冷層，所述第一粘接層設于所述輻射制冷層與所述低光澤度保護層之間，所述第一粘接層能夠將所述低光澤度保護層連接于所述輻射制冷層。
2.根據權利要求1所述的輻射制冷膜，其特征在于，所述低光澤度保護層為壓花保護層，所述壓花保護層包括基層，所述基層設置有壓花結構。
3.根據權利要求2所述的輻射制冷膜，其特征在于，所述壓花保護層的壓花深度為0.5μm～2.5μm。
4.根據權利要求2或3所述的輻射制冷膜，其特征在于，所述壓花保護層的壓花結構為方形、圓形、菱形、斜紋形中的一種或多種。
5.根據權利要求1所述的輻射制冷膜，其特征在于，所述低光澤度保護層包括基層以及亞光涂層，所述第一粘接層設于所述基層與所述輻射制冷層之間，所述亞光涂層設置于所述基層的表面。
6.根據權利要求5所述的輻射制冷膜，其特征在于，所述亞光涂層的厚度為5μm～30μm。
7.根據權利要求1至3任一項所述的輻射制冷膜，其特征在于，所述低光澤度保護層的厚度為12μm～75μm。
8.根據權利要求1至3任一項所述的輻射制冷膜，其特征在于，還包括第二粘接層，所述第二粘接層與所述第一粘接層相對設置在所述輻射制冷層的表面。
9.根據權利要求8所述的輻射制冷膜，其特征在于，所述第二粘接層的厚度為10μm～70μm。
10.根據權利要求8所述的輻射制冷膜，其特征在于，還包括離型層，所述離型層用于設置在所述第二粘接層背離所述輻射制冷層的表面。
11.根據權利要求1至3任一項所述的輻射制冷膜，其特征在于，所述第一粘接層的厚度為3μm～15μm。
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