[實用新型]一種高溫承燒架有效
| 申請號： | 201922472915.3 | 申請日： | 2019-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN212006765U | 公開（公告）日： | 2020-11-24 |
| 發明（設計）人： | 蔣勇;康丁華;周伍;康文濤;彭悅 | 申請（專利權）人： | 婁底市安地亞斯電子陶瓷有限公司 |
| 主分類號： | F27D5/00 | 分類號： | F27D5/00 |
| 代理公司： | 長沙朕揚知識產權代理事務所(普通合伙) 43213 | 代理人： | 劉向丹 |
| 地址： | 417000 湖南省婁底市婁*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 高溫 承燒架 | ||
【權利要求書】：
1.一種高溫承燒架，其特征在于，包括承載本體和設置在承載本體底部兩側的支撐腳，所述承燒架為拱橋形結構，承載本體上表面為平面，下表面為拱形面。
2.根據權利要求1所述的高溫承燒架，其特征在于，所述承載本體和支撐腳為一體成型。
3.根據權利要求1或2所述的高溫承燒架，其特征在于，所述拱形面符合二次拋物線方程。
4.根據權利要求3所述的高溫承燒架，其特征在于，拱形跨度L、拱形高度R、承載本體最小厚度H、支撐腳內側高度X、支撐腳厚度B，滿足下述關系：
10mm≦R≦H≦20mm
(H+R)≦X≦3*(H+R)
10*R≦L≦20*R
10mm≦B≦25mm
10*B≦L≦18*B。
5.根據權利要求1或2所述的高溫承燒架，其特征在于，承載本體下表面與支撐腳內面之間為圓弧過渡。
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