[實用新型]一種用于基片定位且能夠防止飛片的旋涂設備

有效

• 申請號: 201922466697.2
• 申請日: 2019-12-31
• 公開（公告）號: CN211436868U
• 公開（公告）日: 2020-09-08
• 發明（設計）人: 冀然
• 申請（專利權）人: 青島天仁微納科技有限責任公司
• 主分類號: B05C13/02
• 分類號: B05C13/02;B05C11/08;B05C15/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種用于基片定位且能夠防止飛片的旋涂設備，包括真空吸盤、驅動裝置、圓心定位托盤、托盤支架和基片，本實用新型結構簡單，實用性強，真空吸盤和圓心為金屬結構，在接觸溫度較高的基片和高壓時不會變形，旋涂前使用圓心定位托盤定位圓心時，不接觸基片表面，避免了污染和損壞基片，且提高了定位精度和穩定性，有利于膠層厚度的一致性和均勻性，其中氣道組的結構，能夠令真空吸附力分布更加均勻，且可以避免“飛片”現象的發生，旋涂完畢后，圓心定位托盤可從托盤支架上拆下，配合真空吸盤將旋涂好的基片轉移進行下一步操作，避免了人工手動移動剮蹭基片邊緣等失誤。

技術領域

本實用新型涉及納米壓印技術領域，具體為一種用于基片定位且能夠防止飛片的旋涂設備。

背景技術

納米壓印技術通過機械轉移的手段達到了超高的分辨率，是一種新型的微納加工技術，納米壓印的基本步驟包括在基片上涂覆膠液，壓印，固化，分離等，壓印膠的涂覆方式有旋涂、滴膠、滾涂、噴霧等方式，其中旋涂最為常見，旋涂原理即在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液，旋轉速度，旋轉時間和基片間的粘滯系數而不同，在旋涂開始之前，基片放置在吸盤中心，需將基片的中心和吸盤的中心同軸并形成有效固定，這樣才能保證高速旋轉時基片的穩定性，基片發生偏移，與真空吸盤軸心不齊，將會導致旋涂時基片呈時高時低的顛簸狀態，無法得到好的旋涂效果，影響基片在高速旋轉時的穩定性，進而影響膠層的厚度的一致性和均勻性，有的基片甚至會在旋轉的過程中向外飛出，導致基片破裂，增加生產成本。

中國專利《勻膠機吸盤》(CN110238000A)提供了一種勻膠機吸盤，其結構包括：吸納部和支撐連接部，吸納部上設有多個相連通的吸附氣道，吸附氣道包括多個第一氣道和多個第二氣道，多個第一氣道沿吸納部的徑向間隔設置，多個第二氣道分別連通多個第一氣道，第二氣道與抽氣口連接，但是，如果發生與抽氣孔相連接的氣管松動等現象，由于所有的氣道相互連接，將導致所有吸納部的吸附力降低，導致基片在旋轉的過程中向外飛出的后果，另外，涂覆完膠體后，人工手動移動基片，會出現剮蹭基片邊緣膠體等失誤，為解決上述問題，我們提出一種用于基片定位且能夠防止飛片的旋涂設備。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種用于基片定位且能夠防止飛片的旋涂設備，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種用于基片定位且能夠防止飛片的旋涂設備，包括真空吸盤、驅動裝置、圓心定位托盤、托盤支架和基片，所述真空吸盤裝配于驅動裝置上，所述真空吸盤插接裝配于圓心定位托盤上，所述圓心定位托盤裝配于托盤支架上；

所述真空吸盤包括真空吸盤平面上層板和真空吸盤平面下層板，且真空吸盤平面上層板一體成型于真空吸盤平面下層板的上表面，所述真空吸盤平面上層板的上側壁固定裝配有氣道組。所述真空吸盤平面上層板的上側壁均勻開設有真空孔，且真空孔與氣道組相連通，所述真空吸盤平面下層板的下側壁一體成型有底座，所述底座的下側壁開設有定位卡槽；

所述驅動裝置包括電機，且電機通過導線連接到外部電源，所述電機的輸出端固定安裝有電機軸，所述電機軸的上端固定安裝有定位螺栓，且定位螺栓螺接于定位卡槽內；

所述圓心定位托盤包括定位部，所述定位部的右側壁固定安裝有手柄，所述手柄的上側壁右側開設有定位孔；

所述托盤支架包括支柱，所述支柱的上側壁固定安裝有平板，所述平板的上側壁前后對稱固定安裝有導軌，所述導軌的上側壁均滑動裝配有滑塊，所述滑塊的上側壁固定安裝有滑板，所述滑塊的左側壁滑動裝配有定位支柱，所述平板的上側壁開設有通槽，且定位支柱的下端貫穿通槽。

優選的，所述氣道組包括環形氣道和直線型氣道，所述環形氣道固定安裝于真空吸盤平面上層板的上側壁，且直線型氣道固定連通于環形氣道之間。