[實用新型]一種穩定刻蝕槽液面的裝置有效
| 申請號: | 201922464069.0 | 申請日: | 2019-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN210723079U | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發明(設計)人: | 任波;謝毅 | 申請(專利權)人: | 通威太陽能(合肥)有限公司;通威太陽能(成都)有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/67 |
| 代理公司: | 昆明合眾智信知識產權事務所 53113 | 代理人: | 周勇 |
| 地址: | 230088 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 穩定 刻蝕 液面 裝置 | ||
本實用新型公開了一種穩定刻蝕槽液面的裝置,包括擋板,所述擋板頂端開設有波浪狀區域,所述波浪狀區域在接觸液體一側從下往上設置為斜面。所述擋板底端固定連接有安裝板,所述安裝板在接觸液體一側從上往下設置為斜平面,所述斜平面上開設有若干凹槽,所述凹槽與刻蝕槽側壁通過螺絲固定連接。本實用新型通過設置有波浪形端面的擋板并將其安裝在刻蝕槽槽體前后方的側壁上,可以很好的減小刻蝕槽液面波動的情況,而且通過凹槽的配合,可以很好的調節擋板的安裝高度,而且不會影響刻蝕槽液面上硅片的傳輸,達到穩定刻蝕槽液面的目的,解決了現有刻蝕槽液面波動容易導致過刻的問題。
技術領域
本實用新型涉及太陽能電池刻蝕技術領域,具體為一種穩定刻蝕槽液面的裝置。
背景技術
太陽能電池制造經過擴散形成PN結后,需要通過刻蝕工序去掉硅片背面和硅片側面的PN結,達到正面與背面絕緣的目的??涛g工序通常是在刻蝕設備的刻蝕槽中進行,現有的刻蝕槽通常由轉動滾輪帶動硅片在刻蝕液面上前進,進行刻蝕,由于硅片需要在液面上進行移動,所以,刻蝕槽內的液面會產生比較大的波動,并且容易造成刻蝕液體從槽體兩側側壁溢出,而且比較大的液面波動情況,也會導致出現硅片過刻或者刻蝕效果差的情況,所以需要一個用來穩定液面波動的設備進行整流。
對于上述情況,現有技術中,申請號為“201420064839.7”的一種液體槽的整流擋板,擋板豎直設置在液體的表層,擋板的兩端固定在液體槽的側壁上。擋板在高度方向上的一部分位于液面之上,一部分位于液面之下。擋板在寬度方向上一半的區域為格柵區,一半的區域為中空區,格柵區間隔分布斜向的格柵,該液體槽的整流擋板消耗液面多余的動能,使得液面波動顯著降低,適用于各種需要較高的液體流速但又希望液面保持平穩的場合。
但是,上述該整流擋板的使用范圍為液面上不需要設置產品的場合,對于硅片的刻蝕來說,刻蝕槽在使用過程中,硅片需要在刻蝕槽內的液面上進行傳送,而上述該整流擋板很明顯則無法再在液面上進行使用,并且對刻蝕槽槽體這種需要平穩溢流的設備,其液面的穩流效果非常不好。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種穩定刻蝕槽液面的裝置,以解決上述背景技術中提出的問題。
為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
一種穩定刻蝕槽液面的裝置,包括擋板,所述擋板頂端開設有波浪狀區域,所述波浪狀區域在接觸液體一側從下往上設置為斜面。
優選的,所述擋板用于加裝在刻蝕槽前后兩側的內側壁上。
優選的,所述擋板底端固定連接有安裝板,所述安裝板在接觸液體一側從上往下設置為斜平面,所述斜平面上開設有若干凹槽,所述凹槽與刻蝕槽側壁通過螺絲固定連接。
優選的,所述斜平面上開設有穩浪槽,所述穩浪槽中水平設置有緩沖板,所述緩沖板呈三角形設置。
與現有技術相比,本實用新型的有益效果是:
本實用新型通過設置有波浪形端面的擋板并將其安裝在刻蝕槽槽體前后方的側壁上,可以很好的減小刻蝕槽液面波動的情況,而且通過凹槽的配合,可以很好的調節擋板的安裝高度,并且通過安裝板上斜平面和穩浪槽的設置,可以進一步的減緩液面波動情況,而且不會影響刻蝕槽液面上硅片的傳輸,達到穩定刻蝕槽液面的目的,解決了現有刻蝕槽液面波動容易導致過刻的問題。
附圖說明
圖1為本實用新型的擋板結構立體示意圖;
圖2為本實用新型的擋板結構主視示意圖;
圖3為本實用新型的擋板結構側視示意圖;
圖4為本實用新型的擋板結構與刻蝕槽槽體連接結構示意圖;
圖5為本實用新型的A區放大結構示意圖。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





