[實用新型]電光學裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201922441298.0
• 申請日: 2019-12-30
• 公開（公告）號: CN211528859U
• 公開（公告）日: 2020-09-18
• 發(fā)明（設計）人: 金璐;岡真一郎
• 申請（專利權）人: 株式會社日本顯示器
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍

1.電光學裝置，其具有顯示區(qū)域和屈曲區(qū)域，所述屈曲區(qū)域為位于所述顯示區(qū)域的周邊的非顯示區(qū)域的一部分，

所述電光學裝置具有：具備撓性的第一支承基板和具備撓性的第二支承基板，

所述顯示區(qū)域中，在所述第一支承基板與所述第二支承基板之間、從所述第一支承基板側朝向所述第二支承基板側依次形成有第一無機膜、開關元件、電光學層以及第二無機膜，

所述屈曲區(qū)域中，所述第一支承基板被設置于所述屈曲區(qū)域的內徑面?zhèn)龋龅诙С谢灞辉O置于所述屈曲區(qū)域的外徑面?zhèn)龋?/p>

所述屈曲區(qū)域中，在所述第一支承基板與所述第二支承基板之間、從所述第一支承基板側朝向所述第二支承基板側依次形成有電連接于所述開關元件的第一布線、所述第二無機膜以及第一沖擊吸收層，

所述第一沖擊吸收層具有的韌性大于所述第二支承基板以及所述第二無機膜各自的韌性。

2.根據(jù)權利要求1所述的電光學裝置，其中，

所述顯示區(qū)域中，所述電光學層與所述第二無機膜之間形成有多個彩色濾光片，在所述多個彩色濾光片各自的邊界形成有遮光膜，

所述屈曲區(qū)域中，在所述第一布線與所述無機膜之間形成有所述遮光膜。

3.根據(jù)權利要求2所述的電光學裝置，其中，

所述屈曲區(qū)域中，在所述第二無機膜與所述遮光膜之間形成有第二沖擊吸收層，

第二沖擊吸收層具有的韌性大于所述第二支承基板以及所述第二無機膜各自的韌性。

4.根據(jù)權利要求3所述的電光學裝置，其中，

所述第二支承基板由包含聚合物的樹脂材料形成，

所述第二無機膜包含氮化硅、氧化硅、氮氧化硅或者氧化鋁中的至少1者，

所述第一沖擊吸收層以及所述第二沖擊吸收層各自包含鉬、鎢或者鋁中的至少1者。

5.根據(jù)權利要求2所述的電光學裝置，其中，

所述屈曲區(qū)域中，在所述第一支承基板與所述第一布線之間形成有第一有機膜，在所述第一布線與所述遮光膜之間形成有第二有機膜，在所述第二有機膜與所述遮光膜之間形成有密封件。

6.根據(jù)權利要求5所述的電光學裝置，其中，所述第二有機膜具有的韌性大于所述第一有機膜的韌性。

7.根據(jù)權利要求1所述的電光學裝置，其中，構成所述第二支承基板的材料的楊氏模量為5GPa以上。

8.根據(jù)權利要求1所述的電光學裝置，其中，

所述屈曲區(qū)域中，相對于由在所述內徑面?zhèn)犬a生的壓縮應力與在所述外徑面?zhèn)犬a生的拉伸應力形成的彎矩而言的中立面，位于所述多個第一布線與所述第二無機膜之間。

9.根據(jù)權利要求1所述的電光學裝置，其中，

所述第二支承基板由包含聚合物的樹脂材料形成，

所述第二無機膜包含氮化硅、氧化硅、氮氧化硅或者氧化鋁中的至少1者，

所述第一沖擊吸收層包含鉬、鎢或者鋁中的至少1者。

10.根據(jù)權利要求1所述的電光學裝置，其中，所述電光學層是液晶層。