[實用新型]一種低真空氛圍靶材制備系統

有效

• 申請號: 201922414210.6
• 申請日: 2019-12-27
• 公開（公告）號: CN213295474U
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 藺裕平;韓剛庫
• 申請（專利權）人: 梭萊鍍膜工業(江陰)有限公司
• 主分類號: C23C4/134
• 分類號: C23C4/134;C23C4/137
• 代理公司: 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638
• 代理人: 王凱

1.一種低真空氛圍靶材制備系統，其特征在于：所述系統包含有噴涂密封艙(101)，所述噴涂密封艙(101)的艙室經過濾器(102)連通至抽真空機組(103)，等離子噴槍系統(201)的噴槍插裝于噴涂密封艙(101)內，所述噴涂密封艙(101)內安裝有靶材驅動總成；

靶材驅動總成包含有位于噴涂密封艙(101)底面上的滑軌(302)，有一滑板(301)滑動行走于滑軌(302)上，滑板(301)內沿其長度方向設置有一螺孔，有一與滑軌(302)平行的絲桿(303)旋置于螺孔內，且安裝于噴涂密封艙(101)底面上的滑移電機(304)驅動絲桿(303)旋轉；

所述滑板(301)的右端豎向固定設置有右端板(401)，左端板(402)豎向固定設置于移動板(403)上，所述移動板(403)滑動設置于移動滑軌(404)上，移動滑軌(404)位于滑板(301)上，靶材(1)的兩端通過端頭夾持件(2)分別架設于右端板(401)和左端板(402)上，安裝于滑板(301)上的旋轉電機(405)經端頭夾持件(2)驅動靶材(1)旋轉。

2.如權利要求1所述一種低真空氛圍靶材制備系統，其特征在于：所述噴涂密封艙(101)的艙室的一端經管路連通至除塵凈化器(104)的進氣端，除塵凈化器(104)的出氣端經管路連通至噴涂密封艙(101)的艙室的另一端。