[實用新型]一種用于太赫茲波束整形的準光學系統

有效

• 申請號: 201922378054.2
• 申請日: 2019-12-26
• 公開（公告）號: CN211086820U
• 公開（公告）日: 2020-07-24
• 發明（設計）人: 朱新勇;王玉建;劉永利;張朝惠
• 申請（專利權）人: 青島青源峰達太赫茲科技有限公司
• 主分類號: G02B27/09
• 分類號: G02B27/09
• 代理公司: 青島高曉專利事務所(普通合伙) 37104
• 代理人: 付麗麗

1.一種用于太赫茲波束整形的準光學系統，其特征在于，包括平板半導體晶體、超半球硅透鏡、準直透鏡，超半球硅透鏡一面為超半球面，一面為平面，平板半導體晶體固定于超半球硅透鏡平面側，準直透鏡置于超半球硅透鏡超半球面側，平板半導體晶體、超半球硅透鏡、準直透鏡的光軸重合。

2.根據權利要求1所述的用于太赫茲波束整形的準光學系統，其特征在于，所述準直透鏡為非球面準直透鏡，非球面準直透鏡凸面為非球面。

3.根據權利要求2所述的用于太赫茲波束整形的準光學系統，其特征在于，非球面準直透鏡采用Topas COC。

4.根據權利要求1所述的用于太赫茲波束整形的準光學系統，其特征在于，用于太赫茲波束整形的準光學系統，還包括聚焦透鏡和焦面，聚焦透鏡置于準直透鏡一側，準直透鏡和聚焦透鏡凸面相靠近，焦面置于聚焦透鏡焦點位置，平板半導體晶體、超半球硅透鏡、準直透鏡和聚焦透鏡的光軸重合。

5.根據權利要求4所述的用于太赫茲波束整形的準光學系統，其特征在于，所述準直透鏡為非球面準直透鏡，所述聚焦透鏡為非球面聚焦透鏡，非球面準直透鏡和非球面聚焦透鏡凸面均為非球面。

6.根據權利要求5所述的用于太赫茲波束整形的準光學系統，其特征在于，非球面準直透鏡和非球面聚焦透鏡之間的空氣光路距離L1為5-50mm，非球面聚焦透鏡與焦面直接距離L2不大于100mm。

7.根據權利要求6所述的用于太赫茲波束整形的準光學系統，其特征在于，非球面聚焦透鏡和非球面準直透鏡均采用Topas COC。

8.根據權利要求1-7任一項所述的用于太赫茲波束整形的準光學系統，其特征在于，超半球硅透鏡超半球面固定在準直透鏡平面側開設的與超半球硅透鏡超半球面相對應的凹槽內。

9.根據權利要求8所述的用于太赫茲波束整形的準光學系統，其特征在于，超半球硅透鏡表面鍍太赫茲增透膜。