[實用新型]一種刻蝕槽用勻流板及刻蝕槽有效
| 申請號: | 201922351736.4 | 申請日: | 2019-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN210805808U | 公開(公告)日: | 2020-06-19 |
| 發明(設計)人: | 張臨安 | 申請(專利權)人: | 蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司;阿特斯陽光電力集團有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 刻蝕 槽用勻流板 | ||
本實用新型公開了一種刻蝕槽用勻流板及刻蝕槽,其屬于光伏電池加工裝置技術領域,該刻蝕槽用勻流板包括板體,所述板體上開設有多個勻流孔,所述勻流孔包括相連通的進液孔和出液孔,所述進液孔的橫截面的面積小于所述出液孔的橫截面的面積;沿所述出液孔遠離所述進液孔的方向,所述出液孔呈橫截面面積逐漸增大的喇叭狀。本實用新型使得出液孔側的液壓小于進液孔側的液壓,如此設置,能夠使得藥液以散發式的噴射方式進入到刻蝕槽內,使得藥液混合地更加均勻,從而提高刻蝕槽內對硅片刻蝕的均勻性。
技術領域
本實用新型涉及光伏電池加工裝置技術領域,尤其涉及一種刻蝕槽用勻流板及刻蝕槽。
背景技術
在光伏電池的生產流程中,需要對硅片進行清洗制絨、擴散、刻蝕、印刷和燒結等工序。刻蝕作為光伏電池生產中的一道重要工序,其主要作用是去除擴散后硅片四周的N型硅,防止漏電。
一般刻蝕工序在刻蝕裝置的刻蝕槽中進行。刻蝕槽中裝有刻蝕用的藥液。為了保證刻蝕槽內的藥液具有良好的均勻性,一般在刻蝕槽的槽底設有勻流板,勻流板上開設有多個勻流孔,藥液經過勻流板再進入到刻蝕槽內,以改善刻蝕槽內藥液的均勻性。
現有技術中,勻流孔均為截面半徑保持不變的圓形孔洞,其存在如下弊端:進液側的藥液在向出液側流動時,流速緩慢,導致勻流板的勻流效果差。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種刻蝕槽用勻流板及刻蝕槽,以解決現有技術中存在的勻流板的勻流效果不佳的技術問題。
如上構思,本實用新型所采用的技術方案是:
一種刻蝕槽用勻流板,包括板體,所述板體上開設有多個勻流孔,所述勻流孔包括相連通的進液孔和出液孔,所述進液孔的橫截面的面積小于所述出液孔的橫截面的面積;沿所述出液孔遠離所述進液孔的方向,所述出液孔呈橫截面面積逐漸增大的喇叭狀。
可選地,所述進液孔和所述出液孔的橫截面均為圓形;
所述進液孔為圓柱形孔,所述出液孔為圓臺形孔。
可選地,所述出液孔的出口端的直徑是所述進液孔的直徑的二倍至八倍。
可選地,所述進液孔和所述出液孔的橫截面均為跑道型;
沿所述勻流孔的長度方向,在所述進液孔的兩端設置有第一圓弧部,在所述出液孔的兩端設置有第二圓弧部,所述第二圓弧部的半徑大于所述第一圓弧部的半徑,沿所述出液孔遠離所述進液孔的方向,所述第二圓弧部的半徑逐漸增大。
可選地,所述勻流孔沿著所述刻蝕槽用勻流板的一側邊的方向設置有多個勻流孔列,沿所述刻蝕槽用勻流板的另一側邊的方向,每個所述勻流孔列設置有多個所述勻流孔,相鄰兩個所述勻流孔列中的所述勻流孔一一對應。
可選地,所述進液孔和所述出液孔的截面均為四邊形。
可選地,所述四邊形為梯形;
所述勻流孔沿著所述刻蝕槽用勻流板的一側邊的方向設置有多個勻流孔列,沿所述刻蝕槽用勻流板的另一側邊的方向,每個所述勻流孔列設置有多個所述勻流孔,相鄰的兩列所述勻流孔列的所述勻流孔的梯形截面的上底邊和下底邊的位置相反。
可選地,所述四邊形為菱形;
所述勻流孔沿著所述刻蝕槽用勻流板的一側邊的方向設置有多個勻流孔列,沿所述刻蝕槽用勻流板的另一側邊的方向,每個所述勻流孔列設置有多個所述勻流孔,相鄰的兩列所述勻流孔列的所述勻流孔錯開設置。
可選地,相鄰的兩個所述出液孔的間距為0.5-3.5mm。
一種刻蝕槽,所述刻蝕槽內設有上述的刻蝕槽用勻流板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





