[實用新型]一種偏光片用高性能離型膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201922351710.X | 申請日： | 2019-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN211763903U | 公開（公告）日： | 2020-10-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 顧長均;鄧浩鵬 | 申請（專利權(quán)）人： | 東莞市鼎力薄膜科技有限公司 |
| 主分類號： | B32B7/06 | 分類號： | B32B7/06;B32B27/06;B32B27/08;B32B27/28;B32B27/30;B32B27/32;B32B27/36;B32B27/38;B32B27/40;B32B33/00 |
| 代理公司： | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202 | 代理人： | 張艷美;侯柏龍 |
| 地址： | 523000 廣東省東莞*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 偏光 片用高 性能 離型膜 | ||
1.一種偏光片用高性能離型膜，其特征在于，包括基材層，于所述基材層的至少一面設(shè)有電暈層，于所述電暈層的上表面設(shè)有修復(fù)層，于所述修復(fù)層的上表面設(shè)有硅油層，于所述硅油層的上表面設(shè)有平流層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片用高性能離型膜，其特征在于，所述硅油層的厚度小于所述電暈層的厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片用高性能離型膜，其特征在于，所述基材層的厚度為10-100um。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片用高性能離型膜，其特征在于，所述電暈層的厚度為5-8um。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片用高性能離型膜，其特征在于，所述修復(fù)層的厚度為3-10um。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片用高性能離型膜，其特征在于，所述硅油層的厚度為2-4um。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片用高性能離型膜，其特征在于，所述平流層的厚度為3-10um。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片用高性能離型膜，其特征在于，所述平流層的制備材料為低粘性聚乙烯蠟、中粘性聚乙烯蠟或氧化蠟中的一種。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東莞市鼎力薄膜科技有限公司，未經(jīng)東莞市鼎力薄膜科技有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201922351710.X/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
