[實用新型]一種查看靶材晶粒的電解拋光裝置

有效

• 申請號: 201922348141.3
• 申請日: 2019-12-24
• 公開（公告）號: CN211057271U
• 公開（公告）日: 2020-07-21
• 發明（設計）人: 高奇峰;常艷超;中村晃;尤小磊;徐東起;丁靜仁;程小明;王冬振;董常亮;董意男
• 申請（專利權）人: 愛發科電子材料（蘇州）有限公司
• 主分類號: C25F3/20
• 分類號: C25F3/20;C25F7/00;B24B31/10
• 代理公司: 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260
• 代理人: 許云峰

本實用新型公開了一種查看靶材晶粒的電解拋光裝置，包括盛放電解液的容器，所述容器的開口處固定設有承載板，所述承載板居中放置有打磨器，所述打磨器兩側所在的承載板上設有負極端口和正極端口，所述負極端口處插設有一端浸沒在電解液中的不銹鋼片，所述正極端口處安裝有一端浸沒在電解液中的漏網，所述漏網能將放置其內的鋁制晶粒完全浸沒在電解液中；所述容器外部設置有直流電源，所述直流電源的負極與不銹鋼片通過導線連接、正極與鋁制晶粒通過導線連接。通過打磨機進行初步打磨后進行電化學拋光，可將鋁制晶粒的整體拋光時間縮短到約5分鐘左右，減輕勞動強度，拋光效果佳。

技術領域

本實用新型涉及鋁制品的拋光技術領域，尤其涉及一種查看靶材晶粒的電解拋光裝置。

背景技術

鋁金屬因為其耐磨性能、耐腐蝕性能好，得到了廣泛的應用。目前在后端維護時，針對鋁制晶粒的打磨采用半自動的打磨機進行研磨，單個鋁制晶粒的打磨需要耗時30分鐘，耗時長，勞動強度大。

實用新型內容

為克服上述缺點，本實用新型的目的在于提供一種查看靶材晶粒的電解拋光裝置，降低鋁制晶粒的拋光時間，降低勞動強度。

為了達到以上目的，本實用新型采用的技術方案是：一種查看靶材晶粒的電解拋光裝置，包括盛放電解液的容器，所述容器的開口處固定設有承載板，所述承載板居中放置有打磨器，所述打磨器兩側所在的承載板上設有負極端口和正極端口，所述負極端口處插設有一端浸沒在電解液中的不銹鋼片，所述正極端口處安裝有一端浸沒在電解液中的漏網，所述漏網能將放置其內的鋁制晶粒完全浸沒在電解液中；所述容器外部設置有直流電源，所述直流電源的負極與不銹鋼片通過導線連接、正極與鋁制晶粒通過導線連接。

進一步來說，所述打磨器包括安裝在承載板上的驅動電機，所述驅動電機的輸出軸朝上并與磨石承載板相連，所述磨石承載板上固定有研磨石。

進一步來說，所述承載板上設置有控制驅動電機啟停的控制按鍵，方便現場人員進行打磨拋光操作。

進一步來說，所述承載板的中具向上隆起形成打磨平臺，所述打磨器設置在所述打磨平臺上；所述負極端口和正極端口位于打磨平臺兩側的承載板上。

進一步來說，所述打磨器外圍所在的打磨平臺上設有環狀的擋位板。擋位板將鋁制晶粒打磨產生的粉塵顆粒截留在打磨平臺上，減少或避免其直接落入電解液中。

優選地，所述負極端口和正極端口所在的承載板高度與容器的高度齊平，方便現場人工抓取漏網和放置不銹鋼板的載具。

電解液采用硫酸銅電解液或磷酸銅電解液，漏網采用塑料網，其并不會與電解液反應。使用時可先用打磨機對鋁制晶粒進行初步打磨拋光，然后將其放置在漏網并浸沒在電解液中。當其與不銹鋼板直流通電后，正極發生氧化反應Al-3e^-→Al³⁺，負極發生還原反應Cu²⁺+2e^-→Cu，浸沒在電解液并氧化反應對鋁制晶粒進行電化學拋光。

本與現有技術相比，本實用新型通過打磨機進行初步打磨后進行電化學拋光，可將鋁制晶粒的整體拋光時間縮短到約5分鐘左右，減輕勞動強度，拋光效果佳。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例的第一狀態示意圖；

圖2為本實用新型實施例的第二狀態示意圖(缺少直流電源)。

圖中：

1-容器；2-承載板；21-負極端口；22-正極端口；23-打磨平臺；3-打磨器；4-不銹鋼片；5-漏網；6-直流電源；7-擋位板；100-電解液。

具體實施方式