[實(shí)用新型]一種高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201922320384.6
• 申請(qǐng)日: 2019-12-20
• 公開（公告）號(hào): CN212369887U
• 公開（公告）日: 2021-01-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魯博
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 石家莊碧連天環(huán)?？萍加邢薰?/a>
• 主分類號(hào): B01D53/60
• 分類號(hào): B01D53/60;B01D53/74
• 代理公司: 北京聯(lián)瑞聯(lián)豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11411
• 代理人: 郭堃

1.一種高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置，其特征在于：包括殼體，殼體內(nèi)從下至上依次設(shè)置有冷卻腔、輻照腔、和副產(chǎn)物收集腔；所述冷卻腔側(cè)壁設(shè)置有廢氣進(jìn)氣口，底部設(shè)置有出水口，所述冷卻腔內(nèi)設(shè)置有若干霧化裝置；所述輻照腔內(nèi)設(shè)置有盤繞的催化網(wǎng)；所述輻照腔設(shè)置有通入氣體的第一進(jìn)氣端和輸出氣體的第一出氣端；所述殼體側(cè)壁上設(shè)置有一個(gè)或多個(gè)電子束發(fā)生器；所述輻照腔底部設(shè)置有氨氣進(jìn)氣口，所述氨氣進(jìn)氣口插設(shè)有氨氣管；所述殼體頂部設(shè)置有排氣管；所述副產(chǎn)物收集腔內(nèi)設(shè)置除霧板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置，其特征在于：所述催化網(wǎng)采用的材料為稀有金屬。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置，其特征在于：所述霧化裝置包括霧化管和噴嘴，所述噴嘴均勻的分布在所述霧化管上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置，其特征在于：所述副產(chǎn)物收集腔和所述輻照腔內(nèi)還設(shè)置有吸附層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置，其特征在于：所述出水口還設(shè)置有排水止氣閥。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置，其特征在于：所述廢氣進(jìn)氣口還設(shè)置有風(fēng)速計(jì)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置，其特征在于：所述風(fēng)速計(jì)為熱球式風(fēng)速計(jì)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置，其特征在于：所述殼體頂端設(shè)置有風(fēng)機(jī)，所述風(fēng)機(jī)與所述排氣管連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高能電子束輻照處理反應(yīng)裝置，其特征在于：所述吸附層為活性炭層。