[實用新型]一種氧化鋁料漿用霧化盤

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201922311014.6
• 申請日: 2019-12-20
• 公開（公告）號: CN211635252U
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發(fā)明（設計）人: 梁志安
• 申請（專利權）人: 通遼精工藍寶石有限公司
• 主分類號: B01D1/20
• 分類號: B01D1/20;B01D1/30
• 代理公司: 合肥市浩智運專利代理事務所(普通合伙) 34124
• 代理人: 王亞洲

1.一種氧化鋁料漿用霧化盤，其特征在于，包括霧化底盤，所述霧化底盤上開設有霧化腔室；

所述霧化底盤的頂部裝配有頂蓋；

所述霧化底盤的中間部位朝上固定連接有安裝件；

所述霧化腔室內(nèi)環(huán)形分布有若干個初級霧化組件，所述初級霧化組件包括霧化擋塊，相鄰所述霧化擋塊之間形成霧化通道；

所述霧化底盤的外側(cè)壁上開設有與霧化通道對應的霧化出口，所述霧化出口連通霧化通道；

所述霧化擋塊上固定連接有若干個破料機構(gòu)，所述破料機構(gòu)朝向霧化通道；

所述破料機構(gòu)均包括半圓形的導流片，所述導流片上固定連接有若干個破料刀。

2.根據(jù)權利要求1所述的氧化鋁料漿用霧化盤，其特征在于，所述頂蓋的側(cè)邊緣部位環(huán)形分布有若干個沉頭式螺栓，所述霧化底盤的頂部邊緣上開設有若干個與沉頭式螺栓配合的螺紋孔；

通過所述沉頭式螺栓所述頂蓋裝配在霧化底盤的頂部。

3.根據(jù)權利要求2所述的氧化鋁料漿用霧化盤，其特征在于，所述導流片在霧化擋塊上矩形陣列分布；

所述導流片在霧化擋塊兩側(cè)的側(cè)壁上進行分布。

4.根據(jù)權利要求3所述的氧化鋁料漿用霧化盤，其特征在于，所述頂蓋上開設有環(huán)形空隙；

通過所述環(huán)形空隙，所述氧化鋁料漿進料至霧化腔室內(nèi)。

5.根據(jù)權利要求4所述的氧化鋁料漿用霧化盤，其特征在于，所述破料刀的縱向截面形狀為L形。

6.根據(jù)權利要求5所述的氧化鋁料漿用霧化盤，其特征在于，所述霧化出口的兩側(cè)分別固定連接有撞料機構(gòu)。

7.根據(jù)權利要求6所述的氧化鋁料漿用霧化盤，其特征在于，所述撞料機構(gòu)分別包括固定連接在霧化底盤外側(cè)壁上的撞料板；

所述撞料板與霧化出口形成出料通道；

所述撞料板的側(cè)壁上固定連接有若干個金屬球。

8.根據(jù)權利要求7所述的氧化鋁料漿用霧化盤，其特征在于，所述金屬球朝向出料通道；

所述撞料板朝內(nèi)傾斜設置。