[實用新型]一種跟蹤儀靶球座有效
| 申請號： | 201922306574.2 | 申請日： | 2019-12-19 |
| 公開（公告）號： | CN210952699U | 公開（公告）日： | 2020-07-07 |
| 發明（設計）人： | 馬娜;董嵐;王小龍;李波;門玲鸰;羅濤;王銅;梁靜;柯志勇;何振強;盧尚;韓圓穎;閆路平;張曉輝;沈建新 | 申請（專利權）人： | 中國科學院高能物理研究所;散裂中子源科學中心 |
| 主分類號： | G01B11/00 | 分類號： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京睿智保誠專利代理事務所(普通合伙) 11732 | 代理人： | 周新楣 |
| 地址： | 100000 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 跟蹤 儀靶球座 | ||
【權利要求書】：
1.一種跟蹤儀靶球座，其特征在于，所述靶球座的頂部設置有用于放置靶球的凹槽，所述靶球座底部中心位置加工有刻線滑道，所述刻線滑道貫穿靶球座。
2.如權利要求1所述的一種跟蹤儀靶球座，其特征在于，所述靶球座設置為圓柱結構。
3.如權利要求1所述的一種跟蹤儀靶球座，其特征在于，所述刻線滑道至少設置為兩條。
4.如權利要求3所述的一種跟蹤儀靶球座，其特征在于，所述兩條刻線滑道相互垂直，交叉于所述靶球座底部圓心。
5.如權利要求1所述的一種跟蹤儀靶球座，其特征在于，所述凹槽設置為半球狀，所述凹槽與所述靶球形狀相適配；所述凹槽設置有磁塊。
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