[實用新型]一種深度測量裝置

有效

• 申請號: 201922306535.2
• 申請日: 2019-12-18
• 公開（公告）號: CN211826515U
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 曾海;王兆民
• 申請（專利權）人: 深圳奧比中光科技有限公司
• 主分類號: G01S17/08
• 分類號: G01S17/08;G01S17/36;G01S7/4911;G01S7/4912
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 王震宇

1.一種深度測量裝置，其特征在于，包括：

發射模組，包括斑點投影器和液晶，所述斑點投影器被配置為以具有多個斑點的斑點圖案提供輸出光并通過所述液晶照射目標物體；

采集模組，其包括由至少一個像素組成的圖像傳感器，所述圖像傳感器被配置為檢測包括所述輸出光經所述目標物體反射回的至少一部分反射光；

控制與處理器，與所述發射模組以及所述采集模組連接，所述控制與處理器被配置為根據所述輸出光和所述反射光的相位差以獲取所述目標物體的距離；

其中，所述液晶被配置為可控制切換狀態以接收所述斑點圖案后向所述目標物體投射斑點圖案或泛光圖案。

2.如權利要求1所述的深度測量裝置，其特征在于，所述液晶在第一狀態呈透明態，以使得所述發射模組向所述目標物體投射斑點圖案。

3.如權利要求1所述的深度測量裝置，其特征在于，所述液晶在第二狀態呈擴散態，以使得所述發射模組向所述目標物體投射泛光圖案。

4.如權利要求1所述的深度測量裝置，其特征在于，所述斑點投影器包括光源和光學元件。

5.如權利要求4所述的深度測量裝置，其特征在于，所述光源是垂直腔面發射激光器。

6.如權利要求4所述的深度測量裝置，其特征在于，所述光源包括由多個子光源組成的光源陣列。

7.如權利要求6所述的深度測量裝置，其特征在于，所述光源陣列的子光源是不規則排列。

8.如權利要求4所述的深度測量裝置，其特征在于，所述光學元件包括衍射光學元件。

9.如權利要求1所述的深度測量裝置，其特征在于，所述圖像傳感器是ToF圖像傳感器。

10.如權利要求1所述的深度測量裝置，其特征在于，每個所述像素包括至少兩個抽頭，所述抽頭用于采集經所述目標物體反射回的光束所產生的電信號。