[實用新型]一種光器件封裝結構及光器件裝置

有效

• 申請號: 201922293611.0
• 申請日: 2019-12-19
• 公開（公告）號: CN211858688U
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發明（設計）人: 唐永正;李波;王淑暉;徐強;潘雙收
• 申請（專利權）人: 武漢英飛光創科技有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
• 代理人: 鄭飛

1.一種光器件封裝結構，其特征在于，所述封裝結構(100)包括玻璃基板(10)及多個單獨密封單元，各所述密封單元包括依次堆疊排布的有機材料密封層(20)、出光層(30)、封裝層(40)、粘合層(60)及蓋板玻璃層(70)；

所述有機材料密封層(20)設置于所述玻璃基板(10)上，所述有機材料密封層(20)與所述玻璃基板(10)之間設有用于放置光器件(200)的空腔，所述出光層(30)包覆于所述有機材料密封層(20)上，所述封裝層(40)包覆于所述出光層(30)上，所述蓋板玻璃層(70)通過所述粘合層(60)包覆于所述封裝層(40)上，所述蓋板玻璃層(70)的兩側均設有與所述玻璃基板(10)粘接的貼合邊沿(71)。

2.根據權利要求1所述一種光器件封裝結構，其特征在于，各所述密封單元還包括無機材料密封層(50)，所述無機材料密封層(50)設置于所述封裝層(40)與所述粘合層(60)之間。

3.根據權利要求1所述一種光器件封裝結構，其特征在于，所述封裝層(40)包括無機氧化物層(41)及緩沖層(42)，所述緩沖層(42)包覆于所述出光層(30)上，所述無機氧化物層(41)包覆于所述緩沖層(42)上。

4.根據權利要求3所述一種光器件封裝結構，其特征在于，所述的無機氧化物層采用多層金屬氧化物交替形成；所述無機氧化物層的厚度為10nm-100nm；所述無機氧化物層的折射率為0.6-1.1；所述無機氧化物層采用ALD沉積的方式；所述緩沖層為聚硅氧烷。

5.根據權利要求3所述一種光器件封裝結構，其特征在于，所述緩沖層采用旋涂的方式進行生長，緩沖層厚度為100nm-250nm。

6.根據權利要求1所述一種光器件封裝結構，其特征在于，所述貼合邊沿(71)的上表面設有按壓槽(711)，所述按壓槽(711)為橢圓形。

7.根據權利要求4所述一種光器件封裝結構，其特征在于，所述出光層(30)的厚度為2-8nm；所述出光層(30)的折射率范圍為1.2-1.50。

8.根據權利要求7所述一種光器件封裝結構，其特征在于，所述蓋板玻璃層(70)的沉積厚度為60nm-100nm，所述有機材料密封層(20)的厚度為30nm-40nm；所述粘合層采用面涂覆方式形成，厚度為2-8μm。

9.一種光器件裝置，其特征在于，包括權利要求1-8任一所述光器件封裝結構及光器件(200)，所述光器件(200)放置于所述空腔內。