[實用新型]襯布加工用上漿裝置

有效

• 申請號: 201922286303.5
• 申請日: 2019-12-19
• 公開（公告）號: CN212128490U
• 公開（公告）日: 2020-12-11
• 發明（設計）人: 于學兵
• 申請（專利權）人: 長興縣三興服裝輔料有限公司
• 主分類號: D06B1/02
• 分類號: D06B1/02;D06B23/00
• 代理公司: 北京艾皮專利代理有限公司 11777
• 代理人: 郭童瑜

本實用新型屬于襯布加工領域，具體為襯布加工用上漿裝置，包括上漿機構，所述上漿機構包括漿料箱、抽漿泵、輸漿管、噴漿嘴、管路支板，所述漿料箱前部安裝有所述抽漿泵，所述抽漿泵上設有所述輸漿管，所述輸漿管上設有所述噴漿嘴，所述噴漿嘴前后方且位于所述漿料箱頂端焊接有所述管路支板，所述上漿機構上設有抹平機構和導布機構，所述抹平機構包括支塊、下抹平板、支框、絲杠、手柄，所述支塊上設有所述下抹平板，所述支塊頂端設有所述支框，所述支框上轉動連接有所述絲杠，所述絲杠頂端設有所述手柄。本實用新型采用抹平機構，從而可以將襯布上的漿料抹平，并且可以方便調節抹平的力度和適應襯布的厚度。

技術領域

本實用新型屬于襯布加工領域，具體是涉及襯布加工用上漿裝置。

背景技術

服裝襯布是服裝輔料的一大種類，它在服裝上起骨架作用。就如建造房屋需用鋼筋水泥做骨架；制作服裝則需用襯布做骨架。通過襯布的造型、補強、保形作用，服裝才能形成形形色色的優美款式。

現有的襯布加工用上漿裝置不能將襯布上的漿料抹平均勻，并且不能方便調節抹平力度和適應不同厚度的襯布。

需要說明的是，公開于本實用新型背景技術部分的信息僅僅旨在增加對本實用新型的總體背景的理解，而不應當被視為承認或以任何形式暗示該信息構成已為本領域技術人員所公知的現有技術。

實用新型內容

為解決現有技術中存在的問題，本實用新型采用抹平機構，從而可以將襯布上的漿料抹平，并且可以方便調節抹平的力度和適應襯布的厚度。

為了實現上述目的，本實用新型采用以下技術方案：

襯布加工用上漿裝置，包括上漿機構，所述上漿機構包括漿料箱、抽漿泵、輸漿管、噴漿嘴、管路支板，所述漿料箱前部安裝有所述抽漿泵，所述抽漿泵上設有所述輸漿管，所述輸漿管上設有所述噴漿嘴，所述噴漿嘴前后方且位于所述漿料箱頂端焊接有所述管路支板，所述上漿機構上設有抹平機構和導布機構，所述抹平機構包括支塊、下抹平板、支框、絲杠、手柄，所述支塊上設有所述下抹平板，所述支塊頂端設有所述支框，所述支框上轉動連接有所述絲杠，所述絲杠頂端設有所述手柄，所述絲杠上通過螺紋連接設有升降塊，所述升降塊兩側成型有滑槽，所述升降塊上安裝有上抹平板。

在上述技術方案的基礎上，所述導布機構包括導線支柱、導向輥、轉軸，所述支塊遠離所述管路支板一側和所述管路支板遠離所述支塊一側均設有所述導線支柱，所述導線支柱上轉動連接有所述轉軸，所述轉軸上通過鍵連接有所述導向輥。

在上述技術方案的基礎上，所述支框呈長方框形，所述支框穩定支撐，所述升降塊通過所述滑槽與所述支框滑動連接，所述203支撐所述206升降。

在上述技術方案的基礎上，所述絲杠呈垂直設置，所述絲杠可以帶動所述升降塊呈垂直升降。

在上述技術方案的基礎上，所述上抹平板和所述下抹平板均呈豎直設置，所述上抹平板和所述下抹平板配合可以將襯布的上下面抹平。

在上述技術方案的基礎上，所述導布機構包括導線支柱、導向板，所述支塊遠離所述管路支板一側和所述管路支板遠離所述支塊一側均設有所述導線支柱，所述導線支柱上均焊接有所述導向板。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：

1、上漿后的襯布傳送至下抹平板和上抹平板之間時被下抹平板和上抹平板均勻抹平漿料；

2、當需要調節下抹平板和上抹平板之間距離的時，利用手柄帶動絲杠轉動后使升降塊升降，也就可以可以調節上抹平板的高度，進而調節下抹平板和上抹平板之間的距離，也就方便調節抹平的力度和適應襯布的厚度。

本實用新型的附加技術特征及其優點將在下面的描述內容中闡述地更加明顯，或通過本實用新型的具體實踐可以了解到。

附圖說明