[實用新型]一種用于噴砂設備的TFT平面濺射靶材保護結構

有效

• 申請號: 201922268101.8
• 申請日: 2019-12-17
• 公開（公告）號: CN211388351U
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發明（設計）人: 郭文明
• 申請（專利權）人: 東莞市歐萊濺射靶材有限公司
• 主分類號: B24C1/08
• 分類號: B24C1/08;B24C3/00
• 代理公司: 北京天盾知識產權代理有限公司 11421
• 代理人: 林曉宏

本實用新型公開了一種用于噴砂設備的TFT平面濺射靶材保護結構，保護結構包括有緊貼于TFT平面濺射靶材的基片的上表面的第一保護層、貼附于基片的側面的第二保護層以及包裹設置于TFT平面濺射靶材的背板兩端部的第三保護層。其中，第一保護層完全覆蓋于基片的上表面；第二保護層沿基片的邊緣方向閉合設置，第二保護層的底邊平齊于背板的綁定面，第二保護層的上邊包覆于第一保護層的邊緣；在背板的綁定面，兩個第三保護層的內側邊與第二保護層的底邊包圍形成噴砂區。與現有技術相比，該保護結構能夠對靶材的濺射區進行柔性保護，使濺射區的表面保持光潔，保持濺射鍍膜的成膜質量。

技術領域

本實用新型涉及濺射靶材制備技術領域，尤其是涉及一種用于噴砂設備的TFT平面濺射靶材保護結構。

背景技術

在平面靶材的制備過程中，需要對靶材基板表面的進行高精度的濺射鍍膜。為了避免機加工產生的毛刺、飛邊、刀痕等微小突出物所引起的電弧影響鍍膜質量，需要對靶材的非濺射區進行噴砂處理。平面靶的濺射區一般其兩端為弧形邊，中間為平行的直邊，濺射區外側的不規則區域，經常會有反濺射顆粒沉積，噴砂有利于異物吸附沉積。

在對非濺射區進行噴砂處理時，必須對濺射區進行隔離保護，以防止砂礫撞擊造成粗糙度上升，在現有的噴砂保護結構中，僅能夠對于平面靶進行人工噴砂處理，生產率低，而且設置于濺射區的保護層存在安裝難度大，阻擋性能差，容易引入污染和殘留。

實用新型內容

針對現有技術存在的不足，本實用新型的目的是提供一種用于噴砂設備的TFT平面濺射靶材保護結構，能夠對靶材的濺射區以及裝夾區進行隔離保護，通過噴砂設備完成自動噴砂處理，使濺射區保持光潔，方便靶材端部和側部的不規則部分進行噴砂處理。

為了實現上述目的，本實用新型所采用的技術方案是：一種用于噴砂設備的TFT平面濺射靶材保護結構，保護結構包括有緊貼于TFT平面濺射靶材的基片的上表面的第一保護層、貼附于基片的側面的第二保護層以及包裹設置于TFT平面濺射靶材的背板兩端部的第三保護層。其中，第一保護層完全覆蓋于基片的上表面；第二保護層沿基片的邊緣方向閉合設置，第二保護層的底邊平齊于背板的綁定面，第二保護層的上邊包覆于第一保護層的邊緣；在背板的綁定面，兩個第三保護層的內側邊與第二保護層的底邊包圍形成噴砂區。該保護結構能夠對靶材的濺射區進行柔性保護，使濺射區的表面保持光潔，保持濺射鍍膜的成膜質量。

在進一步的技術方案中，第一保護層包括橡膠面板，橡膠面板的形狀大小與基片的上表面的形狀大小相同，橡膠面板的底面改性形成靜電貼面，橡膠面板的靜電貼面重疊緊貼于基片的上表面。

在進一步的技術方案中，第二保護層設置為噴砂保護膜，這一噴砂保護膜的的厚度設置為0.2mm～0.7mm。

在進一步的技術方案中，兩個第三保護層分別設置為噴砂保護膜，這兩個噴砂保護膜的厚度設置為0.3～0.8。

在進一步的技術方案中，TFT平面濺射靶材的背板的兩端部分別設置有用于連接濺射設備的連接部，連接部包括有多個內螺紋穿孔，第三保護層分別覆蓋相應的內螺紋穿孔。

在進一步的技術方案中，橡膠面板的硬度設置為邵氏硬度A型20～25。

在進一步的技術方案中，橡膠面板的厚度設置為2mm～7mm。

在進一步的技術方案中，第三保護層沿背板的周圍方向包裹設置，第三保護層遮擋于背板端部的綁定面、側面、端面以及底面。

在進一步的技術方案中，噴砂區包括有兩個沿TFT平面濺射靶材長度方向的長度側面和兩個沿TFT平面濺射靶材寬度方向的寬度側面。長度側面包括背板的綁定面部分以及背板的側面部分，綁定面部分由背板的長度邊與第二保護層的底邊的長度部分間隔形成；寬度側面由第三保護層的內側邊與第二保護層的底邊的寬度部分間隔形成，第三保護層的內側邊平行于基片相應的寬度側邊。長度側面的綁定面部分的寬度與寬度側面的寬度大小相同。