[實用新型]低成本均勻效果光學系統

有效

• 申請號: 201922256493.6
• 申請日: 2019-12-16
• 公開（公告）號: CN211502630U
• 公開（公告）日: 2020-09-15
• 發明（設計）人: 劉春霞;張騰;顧丹;趙磊;金龔明;邱敏輝
• 申請（專利權）人: 華域視覺科技（上海）有限公司
• 主分類號: F21S43/235
• 分類號: F21S43/235;F21W103/00;F21W107/10;F21Y115/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種低成本均勻效果光學系統，其特征在于：包括相對固定安裝的點光源、導光件和發光件，所述導光件為細長桿狀零件，所述發光件為片狀零件，其中至少一個大面為出光面，所述點光源的出光面朝向所述導光件的一端，所述導光件沿所述發光件的側邊線形延伸設置，所述導光件的側面設有發光面，該發光面朝向所述發光件上與其鄰近的側邊所在端面。

2.如權利要求1所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述導光件的延伸方向為直線或空間曲線。

3.如權利要求1所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述發光件的出光面為平面或曲面。

4.如權利要求1、2或3所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述導光件的表面上設有導光花紋，所述導光花紋設置在導光件上與所述發光面相對的表面上。

5.如權利要求1、2或3所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述發光件上只有一個大面為出光面時，與出光面相對的大面上設有全反射花紋。

6.如權利要求4所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述發光件上只有一個大面為出光面時，與出光面相對的大面上設有全反射花紋。

7.如權利要求1、2或3所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述發光件的出光面設置出光花紋或者皮紋。

8.如權利要求4所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述發光件的出光面設置出光花紋或者皮紋。

9.如權利要求5所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述發光件的出光面設置出光花紋或者皮紋。

10.如權利要求6所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述發光件的出光面設置出光花紋或者皮紋。

11.如權利要求7所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述出光花紋的形狀包括球形、橢球形、錐形和立方體形中的一種或多種。

12.如權利要求8所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述出光花紋的形狀包括球形、橢球形、錐形和立方體形中的一種或多種。

13.如權利要求9所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述出光花紋的形狀包括球形、橢球形、錐形和立方體形中的一種或多種。

14.如權利要求10所述的低成本均勻效果光學系統，其特征在于：所述出光花紋的形狀包括球形、橢球形、錐形和立方體形中的一種或多種。