[實用新型]一種擴散爐清洗裝置

有效

• 申請號: 201922253449.X
• 申請日: 2019-12-16
• 公開（公告）號: CN211464158U
• 公開（公告）日: 2020-09-11
• 發明（設計）人: 崔文榮
• 申請（專利權）人: 江蘇晟馳微電子有限公司
• 主分類號: B08B9/027
• 分類號: B08B9/027
• 代理公司: 北京天盾知識產權代理有限公司 11421
• 代理人: 張彩珍

本實用新型公開了一種擴散爐清洗裝置，包括槽體本體，槽體本體上設有2個單獨的同級清洗槽，槽體本體內部安裝有旋轉電機，所述旋轉電機外接齒輪連接2根旋轉軸，旋轉軸上裝有滾輪，滾輪上裝有2根軟質皮帶，處理管道時與管道接觸，在靠近旋轉電機側，兩根旋轉軸的中間位置設有一根進水管，進水管由機臺底部引出，電磁閥控制進水開關，進水管口接PP材質軟管，槽體本體尾端設有排液口，本實用新型保護了爐管的高溫涂層，延長了爐管的使用壽命；降低了了爐管清洗工序的成本，單次化學試劑消耗量降低50％。

技術領域

本實用新型涉及擴散爐清洗技術領域，具體為一種擴散爐清洗裝置。

背景技術

擴散爐是半導體生產線前工序的重要工藝設備之一，用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業的擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。擴散爐用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導纖維等行業的擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝。

擴散工藝的主要用途是在高溫條件下對半導體晶圓進行摻雜，即將元素磷、硼擴散入硅片，從而改變和控制半導體內雜質的類型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區域。最新的低壓磷擴散利用低壓氛圍可以得到更好的方塊電阻均勻性和更大的生產批量，同時對環境的影響最小。氧化工藝是使硅片表面在高溫下與氧化劑發生反應，生長一層二氧化硅膜。氧化方法有干氧和濕氧，濕氧包括水汽氧化和氫氧合成兩種。

現有的擴散爐管清洗裝置為整體浸泡式，在槽體滾輪上放置爐管，加藥液沒過爐管，開啟旋轉滾輪，轉動爐管，待管壁干凈后排盡槽內酸性溶液，開啟水閥沖水，繼續轉動爐管；6、待水質達到13MΩ時，排盡槽內水，爐管晾干待裝。該設備存在如下缺陷：浸泡式酸處理浪費化劑和水，并且會損傷爐管表面耐高溫層，縮短爐管壽命。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種擴散爐清洗裝置，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種擴散爐清洗裝置，包括槽體本體，所述槽體本體上設有2個單獨的同級清洗槽，所述槽體本體內部安裝有旋轉電機，所述旋轉電機外接齒輪連接2根旋轉軸，所述旋轉軸上裝有滾輪，所述滾輪上裝有2根軟質皮帶，處理管道時與管道接觸，在靠近旋轉電機側，兩根旋轉軸的中間位置設有一根進水管，所述進水管由機臺底部引出，電磁閥控制進水開關，所述進水管口接PP材質軟管，所述槽體本體尾端設有排液口。

優選的，所述排液口設有網罩，所述網罩包括框體，所述框體內側安裝有濾網，所述框體采用環形結構，所述濾網采用石墨烯材料制成。

優選的，所述軟質皮帶采用耐酸尼龍材料制成。

優選的，所述旋轉電機采用伺服電機。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：本實用新型保護了爐管的高溫涂層，延長了爐管的使用壽命；降低了了爐管清洗工序的成本，單次化學試劑消耗量降低50％。

附圖說明

圖1為本實用新型結構示意圖；

圖2為本實用新型網罩結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。