[實用新型]一種利用全息干涉記錄手段制備小占寬比全息光柵的設備

有效

• 申請號: 201922242104.4
• 申請日: 2019-12-13
• 公開（公告）號: CN212846007U
• 公開（公告）日: 2021-03-30
• 發明（設計）人: 劉凱航;王婉秋;任雪暢;爐慶洪
• 申請（專利權）人: 廈門大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 廈門市首創君合專利事務所有限公司 35204
• 代理人: 張松亭

本申請公開了一種利用全息干涉記錄手段制備小占寬比全息光柵的設備，所述設備包括光線產生單元，分束單元，第一光路改變單元，第二光路改變單元，記錄材料以及位置移動單元，通過上述設備能夠實現全息干涉記錄手段制備小占寬比的全息光柵，不僅對制備材料沒有特殊要求，而且不需要額外的設備和特殊元件，利用該中設備制備小占寬比全息光柵過程簡單，制備速度快，且制備成本低。

技術領域

本實用新型涉及一種利用全息干涉記錄手段制備小占寬比全息光柵的設備。

背景技術

目前，與刻劃光柵相比，全息光柵具有能消除鬼線，降低雜散光，分辨率高，適用光譜范圍寬，生產效率高等優點。全息光柵的占寬比(線寬與周期之比)是全息光柵中一項重要參數，全息光柵占寬比不同，全息光柵的衍射效率等性質也不同。然而采用全息干涉記錄手段的方式制備全息光柵，占寬比一般只能控制在0.2～0.6范圍之間。原因在于：利用全息干涉記錄手段方法在制備全息光柵的過程中，隨著曝光時間的增加，全息光柵的占寬比隨之減小，這個過程也會導致光柵槽型地不斷變化，由于干涉條紋的暗條紋中心和兩邊的曝光量不同，隨著曝光時間的增加，光柵的波峰變得越來越窄(即光柵的線寬越來越小)，光柵周期不變的情況下，光柵的占寬比也就隨之越來越小；而當使得占寬比(線寬與周期之比)小于0.2 時，全息光柵溝槽將發生坍塌，光柵形貌無法保留。因此傳統的全息干涉記錄手段方法制備的全息光柵很難得到小于0.2占寬比的全息光柵。目前，為了得到小占寬比的光柵，已有的方法有離子束刻蝕法、利用導波耦合角度法等，但是，離子束刻蝕法需要增加額外的設備，大大增加了制備成本；利用導波耦合角度實時控制光刻膠版光柵掩模的占寬比的方法，制備工藝復雜，不易于實現。

實用新型內容

本實用新型的主要目的在于克服現有技術中的上述缺陷，提出一種利用全息干涉記錄手段制備小占寬比全息光柵的設備。

一種利用全息干涉記錄手段制備小占寬比全息光柵的設備，包括：光線產生單元，分束單元，第一光路改變單元，第二光路改變單元，記錄材料以及為位置移動單元；所述分束單元設置在光線產生單元，用于將光線產生單元產生的光線分成兩束光線，所述第一光路改變單元設置在分束單元的第一出射面，所述第二光路改變單元設置在分束單元的第二出射面，記錄材料設置在所述第一光路改變單元和所述第二光路改變單元的共同出射面上，使得兩出射光線以一定的角度在記錄材料上發生干涉，位置移動單元連接記錄材料，調整記錄材料的位置。

所述光線產生單元為Ar⁺激光器，能夠產生458nm波長的激光。

所述光路改變單元包括反射鏡、擴束鏡和準直透鏡，反射鏡設置在分束單元的出射面，所述擴束鏡設置在發射鏡的出射面，用于將光線擴束，所述準直器設置在擴束鏡的出射面，用于將光線進行準直從而形成平行光線。

所述位置移動單元為步進電機，能夠垂直或水平移動記錄材料。

由上述對本實用新型的描述可知，與現有技術相比，本實用新型具有如下有益效果：通過上述設備能夠實現全息干涉記錄手段制備小占寬比的全息光柵，不僅對制備材料沒有特殊要求，而且不需要額外的設備和特殊元件，利用該中設備制備小占寬比全息光柵過程簡單，制備速度快，且制備成本低。

附圖說明

圖1為全息干涉記錄手段制備小占寬比全息光柵的設備及連接圖。

具體實施方式

以下通過具體實施方式對本實用新型作進一步的描述。

一種利用全息干涉記錄手段制備小占寬比全息光柵的設備，包括：光線產生單元，分束單元，第一光路改變單元，第二光路改變單元，記錄材料以及為位置移動單元；所述分束單元設置在光線產生單元，用于將光線產生單元產生的光線分成兩束光線，所述第一光路改變單元設置在分束單元的第一出射面，所述第二光路改變單元設置在分束單元的第二出射面，記錄材料設置在所述第一光路改變單元和所述第二光路改變單元的共同出射面上，使得兩出射光線以一定的角度在記錄材料上發生干涉，位置移動單元連接記錄材料，調整記錄材料的位置。