[實(shí)用新型]一種連續(xù)電去離子膜堆的清洗裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201922236091.X | 申請(qǐng)日: | 2019-12-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN211920986U | 公開(公告)日: | 2020-11-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王為民;郭彩榮;張巖崗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京賽諾水務(wù)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C02F1/469 | 分類號(hào): | C02F1/469 |
| 代理公司: | 北京市廣友專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 11237 | 代理人: | 耿小強(qiáng) |
| 地址: | 100083 北京市海*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 連續(xù) 離子 清洗 裝置 | ||
本實(shí)用新型涉及一種連續(xù)電去離子膜堆的清洗裝置,屬于水處理技術(shù)領(lǐng)域,包括配藥箱、循環(huán)加藥泵、配藥箱排空閥、清洗水箱、清洗水箱排空閥、清洗水泵、保安過濾器、流量計(jì)、連續(xù)電去離子膜堆、清洗進(jìn)水閥、濃水進(jìn)水閥、產(chǎn)水排放閥、濃水排放閥、濃水流量計(jì)、清洗液排放閥、清洗液回流閥、第一止回閥、第二止回閥、第一蝶閥及第二蝶閥。本實(shí)用新型的連續(xù)電去離子膜堆的清洗裝置,用于清洗受到多種綜合性污染的連續(xù)電去離子膜堆,特別適用于污水再生回用深度處理的連續(xù)電去離子膜堆,有利于連續(xù)電去離子膜堆恢復(fù)產(chǎn)水水質(zhì)和水量,降低運(yùn)行壓差和運(yùn)行電壓,降低運(yùn)行能耗。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種連續(xù)電去離子膜堆的清洗方法及裝置,屬于環(huán)保水處理技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
連續(xù)電去離子(Electrodeionization,EDI)技術(shù),是電滲析與離子交換有機(jī)結(jié)合形成的一種新型膜分離技術(shù)。它將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)相結(jié)合,利用兩端電極高壓使水中帶電離子移動(dòng),并配合離子交換樹脂及選擇性樹脂膜以加速離子移動(dòng)去除,從而達(dá)到水純化的目的。
連續(xù)電去離子(Electrodeionization,EDI)設(shè)備對(duì)進(jìn)水水質(zhì)要求較高,通常設(shè)在二級(jí)反滲透系統(tǒng)之后,取代傳統(tǒng)的混床離子交換技術(shù)(MB-DI),生產(chǎn)穩(wěn)定的超純水。然而,EDI受進(jìn)水電導(dǎo)率、濁度、污染指數(shù)(SDI)、硬度、總有機(jī)碳(TOC)、二氧化碳(CO2)、總陰離子含量(TEA)及工作電壓-電流的影響極大,另外,進(jìn)水溫度、pH值、二氧化硅(SiO2)以及氧化物亦對(duì)EDI系統(tǒng)運(yùn)行有影響。
綜合以上各方面的分析,EDI進(jìn)水的水質(zhì)要求高,一旦水質(zhì)變差,將會(huì)引起膜污染,產(chǎn)水水質(zhì)下降。尤其當(dāng)出現(xiàn)進(jìn)水水質(zhì)較大波動(dòng),未及時(shí)發(fā)現(xiàn),或當(dāng)EDI裝置運(yùn)行時(shí)間較長(zhǎng),EDI膜組則會(huì)受到顆粒/膠體污堵、無(wú)機(jī)物污堵、有機(jī)物污堵及微生物污堵等污染,從而影響產(chǎn)水水質(zhì),導(dǎo)致產(chǎn)水電阻下降。另外,在實(shí)際運(yùn)行過程中,通常并不是某一類污染導(dǎo)致的膜污堵,而是較復(fù)雜的綜合性污染,目前尚未有專門針對(duì)此類工業(yè)污水處理EDI裝置的清洗方法。
目前,水處理行業(yè)內(nèi),有一些清洗方法是針對(duì)超濾和反滲透污染的,如中國(guó)發(fā)明專利申請(qǐng)“一種反滲透膜的化學(xué)清洗方法”(CN10721916B)公開了一種針對(duì)對(duì)苯二甲酸(PTA)精制廢水反滲透膜污染的清洗方法,清洗效果較好。中國(guó)發(fā)明專利申請(qǐng)“一種反滲透膜清洗劑及其制備和清洗方法”(CN109971555A)公開了一種反滲透清洗劑,對(duì)垃圾滲濾液處理二級(jí)反滲透的清洗有明顯效果,所述的清洗藥劑包括亞硫酸鈉(Na2SO3)、氫氧化鈉(NaOH)、表面活性劑等,對(duì)硫(S)單質(zhì)、SiO2引起的污染,有較好的去除污染物效果。
然而,EDI膜明顯區(qū)別于上述兩種常見膜產(chǎn)品,超濾和反滲透的清洗方式方法不適用于EDI,甚至?xí)斐蒃DI的損害,EDI膜對(duì)進(jìn)水水質(zhì)要求高(至少應(yīng)是二級(jí)反滲透(RO)產(chǎn)水),并且需要較高濃度的氯化鈉對(duì)EDI進(jìn)行再生,對(duì)于清洗的化學(xué)藥品等級(jí)也需要引起注意和重視,以免水質(zhì)或化學(xué)藥劑加重對(duì)EDI膜的傷害。隨著EDI在水回用處理及資源化的廣泛應(yīng)用,需要及時(shí)開發(fā)出一種適合且通用的清洗方法和系統(tǒng),用于維護(hù)EDI的運(yùn)行,延長(zhǎng)其使用壽命。
因此,提供一種連續(xù)電去離子膜堆的清洗方法及裝置,不同于針對(duì)某單類污染物的化學(xué)清洗,特別適用于環(huán)保水處理領(lǐng)域的連續(xù)電去離子膜堆膜裝置,對(duì)不同污染物具有廣泛適用性,可以很好地恢復(fù)污染的連續(xù)電去離子膜,降低運(yùn)行壓差,延長(zhǎng)其使用壽命。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的之一是提供一種連續(xù)電去離子膜堆的清洗裝置,用于清洗受到多種綜合性污染的連續(xù)電去離子膜堆,特別適用于污水再生回用深度處理的連續(xù)電去離子膜堆,有利于降低運(yùn)行壓差和運(yùn)行電壓,恢復(fù)產(chǎn)水水質(zhì)和水量,降低運(yùn)行能耗。
本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案達(dá)到的:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京賽諾水務(wù)科技有限公司,未經(jīng)北京賽諾水務(wù)科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201922236091.X/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





