[實(shí)用新型]介質(zhì)諧振器弱負(fù)耦合結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201922210946.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-12-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN211125937U | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡輝;梁宇棟;劉中華;呂家泉 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇亨鑫科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01P1/20 | 分類號(hào): | H01P1/20;H01P7/10 |
| 代理公司: | 蘇州國(guó)誠(chéng)專利代理有限公司 32293 | 代理人: | 杜丹盛 |
| 地址: | 214222 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 介質(zhì) 諧振器 耦合 結(jié)構(gòu) | ||
1.介質(zhì)諧振器弱負(fù)耦合結(jié)構(gòu),其包括至少兩個(gè)相連接的介質(zhì)諧振器,在所述介質(zhì)諧振器之間的連接處設(shè)有耦合結(jié)構(gòu),其特征在于:所述耦合結(jié)構(gòu)包括隔槽、負(fù)耦合階梯孔槽,所述隔槽開設(shè)于所述介質(zhì)諧振器之間的所述連接處,所述隔槽自所述連接處的一側(cè)伸入,沿著所述介質(zhì)諧振器之間的中心連線的垂直方向延伸至所述連接處的另一側(cè),且與所述連接處另一側(cè)側(cè)壁之間留有間距,所述負(fù)耦合階梯孔槽設(shè)置于所述隔槽與所述連接處另一側(cè)側(cè)壁之間,所述負(fù)耦合階梯孔槽自所述連接處上表面向下延伸,且與所述連接處底面之間留有間距。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)諧振器弱負(fù)耦合結(jié)構(gòu),其特征在于:所述隔槽的長(zhǎng)度為所述介質(zhì)諧振器之間所述連接處長(zhǎng)度的0%-50%,所述隔槽自所述連接處上表面貫通至所述連接處底面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)諧振器弱負(fù)耦合結(jié)構(gòu),其特征在于:所述介質(zhì)諧振器的材質(zhì)為陶瓷介質(zhì)材料或高分子材料;所述介質(zhì)諧振器的形狀為圓形或是多邊形塊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的介質(zhì)諧振器弱負(fù)耦合結(jié)構(gòu),其特征在于:在每個(gè)所述介質(zhì)諧振器表面中心均設(shè)有諧振盲孔槽,所述諧振盲孔槽的深度小于所述隔槽的深度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的介質(zhì)諧振器弱負(fù)耦合結(jié)構(gòu),其特征在于:所述負(fù)耦合階梯孔槽的槽深大于所述諧振盲孔槽的深度,所述負(fù)耦合階梯孔槽分為負(fù)耦合階梯上孔槽、負(fù)耦合階梯下孔槽,所述負(fù)耦合階梯上孔槽的直徑大于所述負(fù)耦合階梯下孔槽的直徑,所述負(fù)耦合階梯上孔槽的槽深深度大于所述負(fù)耦合階梯下孔槽的槽深深度。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的介質(zhì)諧振器弱負(fù)耦合結(jié)構(gòu),其特征在于:所述負(fù)耦合階梯孔槽的深度為所述介質(zhì)諧振器之間所述連接處高度的50%-90%,所述負(fù)耦合階梯下孔槽底面與所述連接處底面之間的間距距離至少為0.5mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的介質(zhì)諧振器弱負(fù)耦合結(jié)構(gòu),其特征在于:所述介質(zhì)諧振器、諧振盲孔槽、隔槽及負(fù)耦合階梯孔槽表面均覆有導(dǎo)電層。
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