[實用新型]一種淺基坑大行程升降屏

有效

• 申請號: 201922199401.5
• 申請日: 2019-12-10
• 公開（公告）號: CN211574694U
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發明（設計）人: 楊全明;楊同焱
• 申請（專利權）人: 杭州友邦演藝設備有限公司
• 主分類號: F16M13/02
• 分類號: F16M13/02;F16M11/04;F16M11/18
• 代理公司: 浙江千克知識產權代理有限公司 33246
• 代理人: 裴金華

1.一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：包括基坑座（1）和與所述基坑座（1）連接的升降架（2），所述升降架（2）包括第一架體（21）和第二架體（22），所述第一架體（21）上設置有第一立柱（211）以及設置于所述第一立柱（211）上向所述基坑座（1）內壁方向延伸設置的第一塊（212），所述第一立柱（211）上設置有下引導輪（213）和上引導輪（214），所述第二架體（22）上設置有第二立柱（221）以及設置于所述第二立柱（221）上向所述第一立柱（211）方向延伸設置的第二塊（222），所述基坑座（1）上設置有固定輪（11）以及依次穿過所述固定輪（11）、第一塊（212）、下引導輪（213）、上引導輪（214）與所述第二塊（222）連接的連接鋼絲（12），所述第一架體（21）和第二架體（22）外側設置有投影板（23）。

2.根據權利要求1所述的一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：所述連接鋼絲（12）、第一立柱（211）和第二立柱（221）的數量均至少為兩個，且多個所述第二立柱（221）長度均不相同。

3.根據權利要求1所述的一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：所述第一架體（21）為等腰梯形鋼架。

4.根據權利要求2所述的一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：所述第二架體（22）上表面傾斜設置。

5.根據權利要求1所述的一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：所述基坑座（1）內壁設置有用于方便所述第一塊（212）滑動的第一滑槽。

6.根據權利要求5所述的一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：所述第一立柱（211）上設置有用于方便所述第二塊（222）滑動的第二滑槽。

7.根據權利要求6所述的一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：所述第一滑槽和第二滑槽均為豎直方向延伸設置。

8.根據權利要求1所述的一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：所述固定輪（11）、下引導輪（213）和上引導輪（214）的數量均至少為一個。

9.根據權利要求1所述的一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：所述投影板（23）為穿孔鋁板，且所述投影板（23）上的穿孔數量至少為一個。

10.根據權利要求1所述的一種淺基坑大行程升降屏，其特征在于：所述基坑座（1）上設置有與所述連接鋼絲（12）連接的卷揚機，所述卷揚機設置有PLC控制器，所述第二架體（22）上設置有與所述PLC控制器電連接的位置感應器。