[實用新型]用于格氏反應的裝置有效
| 申請號： | 201922190045.0 | 申請日： | 2019-12-06 |
| 公開（公告）號： | CN211754858U | 公開（公告）日： | 2020-10-27 |
| 發明（設計）人： | 彭志強;李俊召;覃偉華 | 申請（專利權）人： | 廣東省肇慶華格生物科技有限公司 |
| 主分類號： | B01J19/00 | 分類號： | B01J19/00 |
| 代理公司： | 寧波高新區成舟遠東專利代理事務所(普通合伙) 33306 | 代理人： | 高經 |
| 地址： | 526600 廣東省肇慶市德*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 反應 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于格氏反應的裝置，其特征在于：它包括格氏反應釜（1）和用于支撐格氏反應釜（1）的支架（2），支架（2）有兩個且關于格氏反應釜（1）的軸線對稱分布，格氏反應釜（1）的外壁上固定套置有一個固定套（3），固定套（3）的兩側分別固定設置有一個支撐桿（4），兩個支撐桿（4）均為倒L形，兩個支架（2）的上表面上均設置有一個插槽，兩個支撐桿（4）分別插入到兩個插槽內。
2.根據權利要求1所述的用于格氏反應的裝置，其特征在于：兩個支架（2）的上表面上均設置有一凹陷部（21），兩個支架（2）上的插槽均位于凹陷部（21）內。
3.根據權利要求2所述的用于格氏反應的裝置，其特征在于：兩個支架（2）的上表面上均可上下翻轉的設置有一用于將凹陷部（21）蓋住的封蓋（5）。
4.根據權利要求3所述的用于格氏反應的裝置，其特征在于：兩個支架（2）上均設置有一豎直方向的安裝通孔（6）。
5.根據權利要求4所述的用于格氏反應的裝置，其特征在于：兩個支架（2）的下表面上均設置有一與安裝通孔（6）同軸線的減震環（7）。
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