[實用新型]一種薄層水流流速測量裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201922186714.7
• 申請日: 2019-12-09
• 公開（公告）號: CN211348301U
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發(fā)明（設計）人: 莊家堯;徐童心;劉震;鞠俊杰;柳斌;吳建平;王同順
• 申請（專利權）人: 南京林業(yè)大學;江蘇禹諾電子科技有限公司
• 主分類號: G01P5/00
• 分類號: G01P5/00;G01F1/00
• 代理公司: 南京申云知識產權代理事務所(普通合伙) 32274
• 代理人: 于賀賀;邱興天

本實用新型公開了一種薄層水流流速測量裝置，包括第一斜坡框架、第二平坡框架以及第三斜坡框架；所述的第一斜坡框架的上端設置有一儲水槽，該儲水槽通過水泵連接至水源，且第一斜坡框架的斜坡上則相應安裝有一排間隔均勻的流速測量裝置，第一斜坡框架的下端與第二平坡框架的前端通過一水平的緩沖框架連成一體；而第二平坡框架上同樣設置有一排間隔均勻的流速測量裝置。本實用新型提供一種薄層水流流速測量裝置，可同時測量兩種模式下薄層水流的流速，并可同時測量平坡面上薄層水流的流速。

技術領域

本實用新型涉及薄層水流監(jiān)控設備技術領域，具體的說是一種薄層水流流速測量裝置。

背景技術

現(xiàn)有技術中薄層水流常見于自然坡面、城市路面或者水電站泄洪水槽，大壩溢洪道等，薄層水流對地面土壤的侵蝕能力較強，會將土壤顆粒剝離，從而轉移泥沙，造成自然侵害，因此薄層水流的研究非常的重要。

現(xiàn)有技術中對薄層水流流速的測量研究通常設置可調角度的斜坡或者城市路面進行模擬測量，例如CN205506347U的專利文件中，通過對斜坡的薄層水流進行攝像測量流速及波形；現(xiàn)有技術中薄層水流流速模擬測量中，薄層水流的來源有兩種，一是將水引入到坡體上端，使水流自然下落，水流速度從無到有，形成薄層水流；二是通過人工模擬降雨，雨滴直接落入在斜坡上，順著斜坡向下流淌，逐漸形成穩(wěn)定流速的薄層水流；兩者來源的薄層水流流速測量是不同的，現(xiàn)有技術中通常需要兩種模式下分別測量流速，是比較的麻煩的，尤其是第二種形成穩(wěn)定流速的薄層水流需要一定時間限制。

并且現(xiàn)有裝置中多只能單一測量斜坡結構下薄層水流的流速，而類似于城市路面的平面結構還需要另外設置單獨的設備進行測量，也是非常的麻煩。

實用新型內容

針對現(xiàn)有技術的不足，本實用新型提供一種薄層水流流速測量裝置，可同時測量兩種模式下薄層水流的流速，并可同時測量平坡面上薄層水流的流速。

技術方案：本實用新型解決問題所采用的技術方案為：一種薄層水流流速測量裝置，包括第一斜坡框架、第二平坡框架以及第三斜坡框架；所述的第一斜坡框架的上端設置有一儲水槽，該儲水槽通過水泵連接至水源，且第一斜坡框架的斜坡上則相應安裝有一排間隔均勻的流速測量裝置，第一斜坡框架的下端與第二平坡框架的前端通過一水平的緩沖框架連成一體；而第二平坡框架上同樣設置有一排間隔均勻的流速測量裝置，所述的第二平坡框架的尾端同樣通過緩沖框架與第三斜坡框架連成一體，并且第三斜坡框架上同樣設置有一排間隔均勻的流速測量裝置；儲水槽注滿后，水流從第一斜坡框架上自然滾落，分別流過第二平坡框架以及第三斜坡框架上。

作為優(yōu)選，所述的第一斜坡框架、第二平坡框架和第三斜坡框架構成首尾相連的一體式凹狀結構，第一斜坡框架和第三斜坡框架均與第二平坡框架垂直設置。

作為優(yōu)選，所述的第一斜坡框架和第三斜坡框架均包括傾斜的斜坡體以及斜坡體兩側的側板，并且兩者的斜坡體的傾斜角度相同；而所述的第二平坡框架2 則包括平坡體和平坡體兩側的側板。

作為優(yōu)選，兩個緩沖框架的進水端與出水端均安裝有布水濾網。

作為優(yōu)選，所述的流速測量裝置設置為管式流速測量頭，并且每一流速測量裝置均可通過導線連接到外設的處理器上；并且每一坡體上至少間隔均勻的設置有五個流速測量裝置。

作為優(yōu)選，所述的第三斜坡框架的下端還安裝有流量流速測量裝置，可相應測出整體框架的水流總量。

有益效果：本實用新型與現(xiàn)有技術相比，具有以下優(yōu)點：